激光与光电子学进展, 2003, 40 (5): 20, 网络出版: 2006-06-27  

同步辐射光刻用的极紫外光源

作者单位
中国科学院上海光学精密机械研究所,上海 201800
摘要
讨论以极紫外(EUV,此处分别指13.5rm或11.3nm)为基础的下一代光刻用同步辐射作为光源的可能性.要求是:50W,2%带宽和这一带宽外功率最小.研究了三种选择,第一、二种用弯铁和波荡器辐射.结果证明牛津仪器公司和其他公司的早期工作:当发射过多的带外辐射时,光源带内功率不足.第三种是用500MeV直线加速器驱动的带有超导微型波荡器的自由电子激光器(FEL).这种装置能产生带内极紫外功率超过50W,带外功率可忽略.
Abstract

傅恩生. 同步辐射光刻用的极紫外光源[J]. 激光与光电子学进展, 2003, 40(5): 20. 傅恩生. [J]. Laser & Optoelectronics Progress, 2003, 40(5): 20.

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