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0.35 μm分步重复投影光刻物镜设计

Design of 0.35 μm Step-and-Repeat Projection Lithography Objective

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摘要

介绍0.35 μm分步重复投影光刻物镜的设计要点, 包括数值孔径、 结构型式的确定、 材料的选择。 介绍了光刻物镜设计的难点、 创新点及设计结果。

Abstract

The main points of design of 0.35 μm step-and-repeat projection lithography objective are introduced such as the determination of number aperture and structure model and the selection of material. The difficulties, novel design and a design result of lithography objective are discussed.

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所属栏目:简讯

收稿日期:1999-01-04

修改稿日期:1999-06-15

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林妩媚:中国科学院光电技术研究所, 成都 610209
王效才:中国科学院光电技术研究所, 成都 610209

【1】林大键. 工程光学系统设计. 北京: 机械工业出版社, 1987. 220~240

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引用该论文

林妩媚,王效才. Design of 0.35 μm Step-and-Repeat Projection Lithography Objective[J]. Acta Optica Sinica, 2000, 20(8): 1148-1150

林妩媚,王效才. 0.35 μm分步重复投影光刻物镜设计[J]. 光学学报, 2000, 20(8): 1148-1150

被引情况

【1】赵立新,张雨东,王 建,戴 云,高洪涛,董小春,饶学军. 球面投影光刻物镜的设计. 光电工程, 2009, 36(1): 93-97

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