光学学报, 1995, 15 (9): 1254, 网络出版: 2007-08-17  

C60薄膜的准分子激光刻蚀及形貌分析

Excimer Ultraviolet Laser Ablation of C60Films and Its Morphology Analysis
作者单位
1 中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800
2 上海机械工业部材料研究所, 上海 200437
摘要
报道了准分子XeCl(308 nm)紫外激光刻蚀C60膜的实验研究及对刻蚀薄膜的形貌分析。基于形貌分析的结果提出其刻蚀机理。
Abstract
In this paper, experimental study on excimer XeCl (308 nm) ultraviolet laser ablation of C60 films and their morphology analysis are reported. A possible mechanism is presented on the basis of the morphology analysis.

谢燕燕, 吴正亮, 宁东, 楼祺洪, 李缙, 曹基文. C60薄膜的准分子激光刻蚀及形貌分析[J]. 光学学报, 1995, 15(9): 1254. 谢燕燕, 吴正亮, 宁东, 楼祺洪, 李缙, 曹基文. Excimer Ultraviolet Laser Ablation of C60Films and Its Morphology Analysis[J]. Acta Optica Sinica, 1995, 15(9): 1254.

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