红外与激光工程, 2007, 36 (2): 175, 网络出版: 2007-09-18
PLD制备铁电薄膜工艺参数的研究现状
Research status of the technical parameters of the pulsed laser deposited ferroelectric thin films
摘要
铁电薄膜在微电子学、光电子学、集成光学和微电子机械系统等领域有着广泛的应用(前景).脉冲激光沉积(PLD)在铁电薄膜制备方面显示出独特的优越性.介绍了PLD的原理、特点;综述了PLD工艺参数,包括衬底温度、氧气压力、靶材结构与成分、能量密度、靶基距离、缓冲膜以及退火工艺等的研究现状;展望了PLD制备铁电薄膜的应用前景.
Abstract
赵亚凡, 陈传忠, 宋明大. PLD制备铁电薄膜工艺参数的研究现状[J]. 红外与激光工程, 2007, 36(2): 175. 赵亚凡, 陈传忠, 宋明大. Research status of the technical parameters of the pulsed laser deposited ferroelectric thin films[J]. Infrared and Laser Engineering, 2007, 36(2): 175.
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