光电工程, 2004, 31 (3): 41, 网络出版: 2007-11-14
离子束溅射沉积Ta2O5光学薄膜的实验研究
Experimental study for ion beam sputtering deposition of Ta2O5 optical thin film
摘要
根据择优溅射的理论,在不同的通氧方式下,详细分析了离子辅助对离子束溅射沉积Ta2O5薄膜光学特性的影响.结果表明,在薄膜生长的过程中,由于氩离子的轰击作用,薄膜中的氧原子被优先溅射出来,造成了薄膜化学剂量比失调、吸收增加.但是,通过优化辅助离子源中氧气的比例,可获得合理化学剂量比、低损耗的Ta2O5薄膜.
Abstract
刘洪祥, 熊胜明, 李凌辉, 张云洞. 离子束溅射沉积Ta2O5光学薄膜的实验研究[J]. 光电工程, 2004, 31(3): 41. 刘洪祥, 熊胜明, 李凌辉, 张云洞. Experimental study for ion beam sputtering deposition of Ta2O5 optical thin film[J]. Opto-Electronic Engineering, 2004, 31(3): 41.
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