光电工程, 2004, 31 (10): 24, 网络出版: 2007-11-14
成像干涉光刻技术及其频域分析
Imaging interferometric lithography and its spatial frequency analysis
摘要
传统光学光刻技术(OL)由于其固有的限制,虽然可对任意图形成像,但分辨力较低.无掩模激光干涉光刻技术(IL)的分辨力可达λ/4,却局限于周期图形.成像干涉光刻技术(IIL)结合了二者的优点,用同一个系统分次传递物体不同的空间频率,能更有效地传递物体的信息,以高分辨力对任意图形成像.初步模拟研究表明,在同样的曝光波长和数值孔径下,对同样特征尺寸的掩模图形,IIL得到的结果好于OL.在CD=150nm时,IIL相对于OL把分辨力提高了1.5倍多.
Abstract
刘娟, 冯伯儒, 张锦. 成像干涉光刻技术及其频域分析[J]. 光电工程, 2004, 31(10): 24. 刘娟, 冯伯儒, 张锦. Imaging interferometric lithography and its spatial frequency analysis[J]. Opto-Electronic Engineering, 2004, 31(10): 24.
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