光电工程, 2004, 31 (z1): 67, 网络出版: 2007-11-14  

离子束溅射淀积光学薄膜的膜厚均匀性实验

Uniformity of optical film prepared by ion beam sputtering
作者单位
1 中国科学院光电技术研究所,四川,成都,610209
2 中国科学院研究生院,北京,100039
摘要
介绍了离子束溅射技术改善薄膜均匀性的两种方法.研究了修正板技术,根据工程需要将修正板技术应用于行星转动条件下的光学薄膜的均匀性修正.分别研究了靶摆动和不摆动的情况下,淀积薄膜的均匀性修正.实验结果表明,修正后的均匀性结果优于1%,能满足实际应用的要求;靶摆动修正的均匀性结果优于修正板技术.
Abstract

李凌辉, 熊胜明, 申林, 刘洪祥, 张云洞. 离子束溅射淀积光学薄膜的膜厚均匀性实验[J]. 光电工程, 2004, 31(z1): 67. 李凌辉, 熊胜明, 申林, 刘洪祥, 张云洞. Uniformity of optical film prepared by ion beam sputtering[J]. Opto-Electronic Engineering, 2004, 31(z1): 67.

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