光子学报, 2003, 32 (3): 318, 网络出版: 2007-09-18
刻蚀衍射光栅色散特性分析
Analysis of the Chromatic Dispersion Characteristics for an Etched Diffraction Grating
摘要
对作为波分复用关键器件之一的刻蚀衍射光栅（EDG）的色散特性提出了一种完整的计算方案，分析了器件强度响应和相位响应之间的内在关系．同时通过模拟计算提出并验证了平坦化的同时加剧了色散，以及适当改善频谱响应带通纹波大小可以在一定程度上降低器件的色散．最终指出了使用渐变的抛物线结构多模干涉更有利于得到综合性能最优的平坦频谱．
Abstract
宋军, 何赛灵, 何建军. 刻蚀衍射光栅色散特性分析[J]. 光子学报, 2003, 32(3): 318. 宋军, 何赛灵, 何建军. Analysis of the Chromatic Dispersion Characteristics for an Etched Diffraction Grating[J]. ACTA PHOTONICA SINICA, 2003, 32(3): 318.
PDF全文
