强激光与粒子束, 2007, 19 (9): 1543, 网络出版: 2008-02-18
双离子束溅射沉积HfO2光学薄膜的研究
HfO2 optical films prepared by dual ion beam sputtering deposition
摘要
用双离子束溅射沉积氧化铪光学薄膜,并对此工艺下制备的氧化铪薄膜进行了光学性质、残余应力、结构特性以及激光损伤特性的研究.实验结果表明,用双离子束溅射沉积的氧化铪薄膜不仅结构均匀,膜层致密,无定形结构,而且具有极低的散射和吸收,均匀的非晶结构,杂质缺陷少,激光损伤阈值高.
Abstract
张文杰, 彭玉峰, 王建成, 程祖海. 双离子束溅射沉积HfO2光学薄膜的研究[J]. 强激光与粒子束, 2007, 19(9): 1543. 张文杰, 彭玉峰, 王建成, 程祖海. HfO2 optical films prepared by dual ion beam sputtering deposition[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2007, 19(9): 1543.
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