光学仪器, 2006, 28 (4): 141, 网络出版: 2008-08-12   

利用功率谱密度函数表征光学薄膜基底表面粗糙度

Specifying surface roughness of optical film substrate using the power spectral density
作者单位
同济大学精密光学工程技术研究所,物理系,上海,200092
摘要
光学表面的表面粗糙度通常利用两个传统参数方根粗糙度σ和相关长度l来进行表征.主要就如何引入功率谱密度函数(PSD)表征表面微观形貌进行了初步研究.说明了一维和二维功率谱密度(PSD)函数的数学计算方法、 PSD函数的物理意义,同时给出了PSD函数与传统的表面评价指标σ和l之间的关系.利用不同仪器对多种样品进行测试,在分析比较测试结果的基础上,总结了利用PSD函数评价光学表面粗糙度的优点.功率谱密度函数作为一个全面的光学表面评价参数,正得到越来越广泛的重视和应用.
Abstract

沈正祥, 王占山, 马彬, 徐敬, 陈玲燕. 利用功率谱密度函数表征光学薄膜基底表面粗糙度[J]. 光学仪器, 2006, 28(4): 141. 沈正祥, 王占山, 马彬, 徐敬, 陈玲燕. Specifying surface roughness of optical film substrate using the power spectral density[J]. Optical Instruments, 2006, 28(4): 141.

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