红外与激光工程, 2007, 36 (6): 896, 网络出版: 2008-08-17
离子束辅助沉积薄膜工艺
IAD process for optical coating application
摘要
阐述了离子源在离子束清洗和离子束辅助薄膜沉积(IAD)中的应用;根据热力学原理及离子碰撞过程分析,研究了离子束辅助沉积过程中的能量传递过程,建立了薄膜折射率与离子辅助沉积过程中各物理量之间的关系模型;探讨了各种工艺条件对离子束辅助沉积薄膜特性的影响,给出了薄膜材料无结晶条件下离子束辅助沉积薄膜工艺选择的相应准则.
Abstract
作者简介：范滨(1972-),男,安徽芜湖人,博士,主要研究方向为薄膜理论及制备工艺研究.Email:bin_fan@optorun.co.jp
王利, 程鑫彬, 王占山, 唐骐, 范滨. 离子束辅助沉积薄膜工艺[J]. 红外与激光工程, 2007, 36(6): 896. 王利, 程鑫彬, 王占山, 唐骐, 范滨. IAD process for optical coating application[J]. Infrared and Laser Engineering, 2007, 36(6): 896.
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