现代显示, 2008, 19 (1): 47, 网络出版: 2008-08-17
铝诱导晶化法制备多晶硅薄膜
Fabricating Polycrystalline Silicon Thin Films by Aluminum Induced Crystallization
摘要
多晶硅薄膜在微电子和能源科学领域有着广泛的应用.本文介绍了利用铝诱导晶化非晶硅制备多晶硅薄膜的方法,叙述了铝诱导晶化法制备多晶硅薄膜的一般过程,着重讨论了铝诱导晶化非晶硅的机理和在制备过程中各种参数对多晶硅薄膜质量的影响.
Abstract
刘伟, 高斐, 方晓玲, 王建军, 张佳雯, 晏春愉. 铝诱导晶化法制备多晶硅薄膜[J]. 现代显示, 2008, 19(1): 47. 刘伟, 高斐, 方晓玲, 王建军, 张佳雯, 晏春愉. Fabricating Polycrystalline Silicon Thin Films by Aluminum Induced Crystallization[J]. ADVANCED DISPLAY, 2008, 19(1): 47.
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