现代显示, 2008, 19 (5): 34, 网络出版: 2008-08-17
基于半导体光刻技术的自动调焦
Auto-focus Base on Semiconductor Photo Lithography
摘要
提出了基于图像处理的半导体光刻技术自动调焦的方法,利用图象处理算法实现半导体光刻技术的自动调焦.实验结果表明,这种方法可以实现高精度(200nm)和良好的重复性(400nm)的调焦.
Abstract
王彭, 杨永跃, 李其德. 基于半导体光刻技术的自动调焦[J]. 现代显示, 2008, 19(5): 34. 王彭, 杨永跃, 李其德. Auto-focus Base on Semiconductor Photo Lithography[J]. ADVANCED DISPLAY, 2008, 19(5): 34.
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