光学技术, 2012, 38 (4): 431, 网络出版: 2012-10-08  

TDX-200透射电子显微镜自动曝光原理研究

Design and realization of automatic exposure of TDX-200 transmission electron microscopy
作者单位
北京航空航天大学仪器科学与光电工程学院 微纳测控与低维物理教育部重点实验室, 精密光机电一体化技术教育部重点实验室, 国家“惯性技术”重点实验室, 北京 100191
摘要
通过分析透射电子显微镜的曝光机理, 得出了荧光屏亮度与曝光时间之间的关系表达式。设计了TDX-200透射电子显微镜自动曝光电路, 并通过实验对自动曝光参数进行了标定。通过对多种实际样品在不同工作模式下进行自动曝光试验, 得到了相对清晰的电子显微像。结果表明, TDX-200透射电子显微镜自动曝光的设计满足要求。
Abstract
By studying the exposure principle applied to transmission electron microscopy (TEM), the relational expression between current density on fluorescent screen and exposure time is deduced. The automatic exposure circuit of TDX-200 TEM is designed and the parameter value in expression is gained by the exposure experimentation with the master sample on the TDX-200 TEM. As a result, on the TDX-200 TEM, the automatic exposure experimentation on some samples is completed on the different operating modes, finally the relatively clear-cut TEM images are formed. The experimentation results indicate that the design of automatic exposure is valid.

杨彦杰, 董全林, 崔永俊, 李鹏, 南国. TDX-200透射电子显微镜自动曝光原理研究[J]. 光学技术, 2012, 38(4): 431. YANG Yanjie, DONG Quanlin, CUI Yongjun, LI Peng, NAN Guo. Design and realization of automatic exposure of TDX-200 transmission electron microscopy[J]. Optical Technique, 2012, 38(4): 431.

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