红外与毫米波学报, 2012, 31 (5): 407, 网络出版: 2012-10-18  

掺砷碲镉汞的光致发光光谱和电学性质

Photoluminescence and electrical characteristics of arsenic-doped HgCdTe
作者单位
1 中国科学院上海技术物理研究所 红外物理国家重点实验室,上海 200083
2 中国科学院上海技术物理研究所 材料器件国防实验室, 上海 200083
3 华东师范大学ECNU-SITP联合实验室, 上海 200062
摘要
碲镉汞的电学性能和光学性能直接决定探测器性能.对窄禁带掺砷碲镉汞进行了11~300 K的红外光致发光光谱和变温霍尔测量.对变温光致发光光谱进行了拟合分析,结果表明经通用的两步退火, 样品不仅存在砷占碲位(AsTe)、汞空位(VHg)和TeHg-VHg对,还存在碲反位(TeHg).掺杂浓度越大,退火产生的TeHg-VHg对越多.变温霍尔分析进一步证明通用的两步退火后材料中存在TeHg, TeHg留在材料中使迁移率减小.
Abstract
Electrical and optical properties of HgCdTe are crucial for detectors. Infrared photoluminescence (PL) spectra in the temperature range of 11-300K and Hall data were recorded on the arsenic-doped narrow-gap HgCdTe epilayers. Curve fittings of PL spectra indicate that AsTe、 VHg、 TeHg-VHg and TeHg exist in the arsenic-doped HgCdTe epilayers after the two-step annealing. More TeHg-VHg pairs are created when the dopant concentration is increased. Analysis of temperature-dependent Hall data verifies the existence of TeHg, which lowers the mobility of the material.

张小华, 陈路, 林铁, 何力, 郭少令, 褚君浩. 掺砷碲镉汞的光致发光光谱和电学性质[J]. 红外与毫米波学报, 2012, 31(5): 407. ZHANG Xiao-Hua, CHEN Lu, LIN Tie, HE Li, GUO Shao-Ling, CHU Jun-Hao. Photoluminescence and electrical characteristics of arsenic-doped HgCdTe[J]. Journal of Infrared and Millimeter Waves, 2012, 31(5): 407.

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