强激光与粒子束, 2014, 26 (12): 121005, 网络出版: 2015-01-08   

极紫外光源锡液滴靶的检测研究

Detecting tin droplet used for EUV source
作者单位
1 华中科技大学 武汉光电国家实验室, 武汉 430074
2 武汉工程大学 理学院, 武汉 430205
摘要
采用正交放置的两路CCD,基于图像采集及处理的方法,建立了极紫外光源锡液滴靶发生装置的锡液滴检测系统,可以实时监测锡液滴的运动状态及稳定性。对本实验室频率为34 kHz的锡靶发生器产生的液滴进行了锡液滴监测实验。监测结果显示,锡液滴直径约为137 μm,平均间距为375 μm,稳定性较好,并对水平面上横向稳定性进行了分析。
Abstract
A detecting system is set up based on image processing used for EUV source. The tin target motion and stability are displayed by image capturing and processing in real time. The system is tested when tin droplet is generated by the tin generator at 34 kHz. The result reveals that tin droplet size is close to 137 μm, and the distance between every two drops is about 375 μm. The lateral droplet stability is analyzed which contributes to laser produced plasma EUV source.

陈子琪, 王新兵, 左都罗, 陆培祥, 吴涛. 极紫外光源锡液滴靶的检测研究[J]. 强激光与粒子束, 2014, 26(12): 121005. Chen Ziqi, Wang Xinbing, Zuo Duluo, Lu Peixiang, Wu Tao. Detecting tin droplet used for EUV source[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2014, 26(12): 121005.

本文已被 1 篇论文引用
被引统计数据来源于中国光学期刊网
引用该论文: TXT   |   EndNote

相关论文

加载中...

关于本站 Cookie 的使用提示

中国光学期刊网使用基于 cookie 的技术来更好地为您提供各项服务,点击此处了解我们的隐私策略。 如您需继续使用本网站,请您授权我们使用本地 cookie 来保存部分信息。
全站搜索
您最值得信赖的光电行业旗舰网络服务平台!