太赫兹科学与电子信息学报, 2016, 14 (5): 800, 网络出版: 2016-11-30   

商用CMOS工艺SRAM脉冲中子辐射效应实验

Experimental investigations on pulsed neutron radiation effect on commercial CMOS SRAMs
作者单位
西北核技术研究所 强脉冲辐射环境模拟与效应国家重点实验室,陕西 西安 710024
摘要
为研究互补金属氧化物半导体(CMOS)工艺静态随机处理内存(SRAM)脉冲中子辐射效应机理,对SRAM 翻转效应进行了蒙特卡罗模拟。该模拟基于脉冲中子辐照下SRAM 翻转是单粒子翻转的叠加的假设,计算了单位翻转和伪多位翻转在总翻转数中的百分比。在西安脉冲反应堆上对3 种特征尺寸商用SRAM 开展了脉冲工况实验研究,得到了单位翻转和伪2 位翻转数据,结合模拟结果分析了SRAM 在脉冲中子作用下的翻转机制。
Abstract
For the purpose of investigating pulsed neutron radiation effect on Complementary Metal Oxide Semiconductor(CMOS) Static Random Access Memory(SRAMs),a Monte Carlo simulation method based on the hypothesis that the upsets are caused by the super positioning of Single Event Upset(SEUs) is presented. In the simulation, the percentages of Single Bit Upset(SBU) and pseudo Multiple Bit Upset(MBU) bits in total induced upset bits are calculated. Experiments on commercial SRAMs of three feature sizes are performed on Xi'an Pulsed Reactor under pulsed irradiation condition. Upset bits of SBU and Pseudo DBU obtained from the experiments, are shown to agree quite well with the simulation results. The mechanism of pulsed neutron inducing upsets is analyzed.

齐超, 杨善潮, 刘岩, 陈伟, 林东生, 金晓明, 王晨辉. 商用CMOS工艺SRAM脉冲中子辐射效应实验[J]. 太赫兹科学与电子信息学报, 2016, 14(5): 800. QI Chao, YANG Shanchao, LIU Yan, CHEN Wei, LIN Dongsheng, JIN Xiaoming, WANG Chenhui. Experimental investigations on pulsed neutron radiation effect on commercial CMOS SRAMs[J]. Journal of terahertz science and electronic information technology, 2016, 14(5): 800.

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