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808 nm连续输出13.6 W单芯片大功率激光器

808 nm Single Emitter High Power Laser with 13.6 W

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摘要

通过对大功率激光器腔面光学灾变损伤的研究, 分析了激光器腔面镀膜的损伤机理。为了提高激光器的输出功率, 采用TiO2替换Si作为高折射率材料, 建立非标准膜系降低电场强度, 同时优化膜层材料的粗糙度, 并采用离子源进行清洗和助镀, 有效提高了激光器的腔面光学灾变损伤阈值。结果表明, 所制作的808 nm激光器, 最大连续输出功率达到13.6 W。

Abstract

The catastrophic optical damage of the high power laser is studied, and the damage mechanism of the laser facet coating is analyzed. In order to increase the output power of the laser, the TiO2 is used to replace the Si as the high refractive index materials, the nonstandard film is set up to reduce the intensity of electric field. Meanwhile, the roughness of the film materials is optimized, and the ion source is used to clean and flux. The threshold of the catastrophic optical damage is effectively improved. The results show that the proposed laser has a maximum continuous output power of 13.6 W.

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补充资料

中图分类号:TN248.4

DOI:10.3788/cjl201845.0101013

所属栏目:激光器件与激光物理

基金项目:国家重点研发计划(2016YFB0401802)

收稿日期:2017-08-31

修改稿日期:2017-09-28

网络出版日期:--

作者单位    点击查看

李沛旭:山东华光光电子股份有限公司, 山东 济南 250101
殷方军:山东华光光电子股份有限公司, 山东 济南 250101
张成山:山东华光光电子股份有限公司, 山东 济南 250101
开北超:山东华光光电子股份有限公司, 山东 济南 250101
孙素娟:山东华光光电子股份有限公司, 山东 济南 250101
江建民:山东华光光电子股份有限公司, 山东 济南 250101
夏伟:山东华光光电子股份有限公司, 山东 济南 250101济南大学物理科学与技术学院, 山东 济南 250022
徐现刚:山东华光光电子股份有限公司, 山东 济南 250101山东大学晶体材料国家重点实验室, 山东 济南 250100

联系人作者:李沛旭(lipx@inspur.com)

备注:李沛旭(1982-), 男, 博士, 高级工程师, 主要从事半导体激光器的材料、结构及器件的设计制作等方面的研究。

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引用该论文

Li Peixu,Yin Fangjun,Zhang Chengshan,Kai Beichao,Sun Sujuan,Jiang Jianmin,Xia Wei,Xu Xiangang. 808 nm Single Emitter High Power Laser with 13.6 W[J]. Chinese Journal of Lasers, 2018, 45(1): 0101013

李沛旭,殷方军,张成山,开北超,孙素娟,江建民,夏伟,徐现刚. 808 nm连续输出13.6 W单芯片大功率激光器[J]. 中国激光, 2018, 45(1): 0101013

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