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沉积工艺对YbF3薄膜可靠性的影响研究

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摘要

氟化镱(YbF3)薄膜是红外光学薄膜中常用的低折射率材料,其性能受薄膜沉积工艺影响较大,为了能制备出高可靠性的YbF3薄膜,本文从沉积方式、薄膜厚度、沉积温度和离子束能量四个方面,研究了不同薄膜沉积工艺对YbF3薄膜可靠性的影响。研究发现:(1)相较于电阻加热蒸发方式,用电子束加热蒸发得到YbF3薄膜,其致密性更好,水汽吸收也更小。(2)薄膜太厚或沉积温度太高会加大YbF3薄膜的应力,使薄膜表面出现裂痕,甚至使薄膜脱落。(3)离子源辅助沉积使YbF3薄膜晶体结构更加接近非晶状态,增加薄膜附着力,改善薄膜表面质量;同时随着离子束能量的增加薄膜的应力会先增大随后减小。根据以上实验结果得出YbF3薄膜的最佳沉积工艺,并研制出具有良好光谱性能和空间可靠性的宽光谱增透膜。

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补充资料

DOI:10.3788/aos201838.0731002

作者单位:

    中国科学院上海技术物理研究所
    中科院上海技术物理研究所
    中国科学院上海技术物理研究所

引用该论文

冯毅东,于天燕,刘定. 沉积工艺对YbF3薄膜可靠性的影响研究[J].光学学报,2018,38(7):0731002.