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光学学报
ESCI,EI,SCOPUS,CJCR,CSCD,北图
2019年第39卷第03期1页
原子层沉积技术制备石英管表面减反射膜研究
录用时间:2018-09-21
论文栏目
表面光学
作者单位
1 浙江大学
2 浙江大学光电系光学薄膜所
3 浙江大学光电科学与工程学院
4 浙江大学光电系
论文摘要
探究了基于自限制反应的原子层沉积技术在石英管表面沉积薄膜的均匀性分布以及尺寸的影响。以单波长减反射膜为研究对象,实验结果与设计结果一致,石英管表面最低反射率可降至0.17%。忽略夹具影响,石英管外壁与内壁非均匀性基本一致,在±1.69%范围内,内外壁表面沉积厚度也即中心波长相同,而且石英管尺寸变化对内外壁薄膜均匀性无明显影响。因此,原子层沉积(ALD)技术可以实现在不同尺寸大曲率元件的内外表面同时沉积厚度偏差小,均匀性分布相似的减反射薄膜,突破了物理气相沉积技术以及浸渍法在大曲率表面内外侧沉积薄膜的限制,可在成像、通信、探测等领域广泛应用。
引用本文
沐雯, 沈伟东, 杨陈楹, 郑晓雯, 王震, 袁华新, 袁文佳, 章岳光. 原子层沉积技术制备石英管表面减反射膜研究[J]. 光学学报, 2019, 39(03): 1. 
DOI:10.3788/aos201939.03表面光学01
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