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并行STED显微中光学系统对荧光擦除图案的影响

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摘要

并行受激发射损耗(stimulated emission depletion, STED)显微术采用周期性排列的光学格子作为荧光抑制图案并行实现多点荧光擦除,可以有效地提升显微成像的时间分辨率。本文建立了并行STED显微成像系统的简化光学系统模型,在此基础上推导出受光学参数影响的并行荧光擦除图案周期公式,来阐明辅助物镜及显微物镜对该周期的影响机理。由该公式,我们解出了能产生更小周期并行荧光擦除图案的最优光学参数。数值仿真结果显示,我们的方法能产生出周期小至276nm*276nm的正方形网格状并行荧光擦除图案。

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DOI:10.3788/lop57.091801

作者单位:

    Beijing University of Technology
    Beijing University of Technology

引用该论文

张硕晨,冯继宏. 并行STED显微中光学系统对荧光擦除图案的影响[J].激光与光电子学进展,2020,57(09):091801.