网络首发

中国激光
ESCI,EI,SCOPUS,CJCR,CSCD,北图
2021年第48卷第07期3页
调Q运转外腔面发射激光器
录用时间:2020-10-14
网络首发时间:2020-12-09
论文栏目
激光器件与激光物理
作者单位
1 重庆师范大学物理与电子工程学院
2 河北 石家庄 179信箱37分箱 中国电子科技集团总公司第十三研究所
3 电子科技集团公司第十三研究所
论文摘要
在光泵浦外腔面发射激光器中,分别用Cr4+:YAG晶体和半导体可饱和吸收镜SESAM作为可饱和吸收介质,获得了稳定的调Q脉冲输出。使用Cr4+:YAG晶体时,调Q脉冲的宽度为10μs,脉冲重复频率为26.3kHz。在相同的脉冲重复频率下,用半导体可饱和吸收镜所获得的调Q脉冲宽度为8μs。基于外腔面发射激光器中增益芯片的量子结构,以及Cr4+:YAG晶体和半导体可饱和吸收镜各自的时间特性,分析讨论了两种不同的可饱和吸收介质作用下,外腔面发射激光器中调Q脉冲的形成过程,初步清晰了外腔面发射激光器这一特殊种类的激光器中与调Q过程相关的物理图像。
引用本文
张晓健, 潘丽, 曾颖, 张洲, 杨红伟, 王彦照, 王涛, 朱仁江, 范嗣强, 张鹏. 调Q运转外腔面发射激光器[J]. 中国激光, 2021, 48(07): 3. 
DOI:10.3788/cjl202148.07激光器件与激光物理03
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