发光学报, 2017, 38 (4): 442, 网络出版: 2017-05-03   

ZnO∶(Al, Sm)阻挡层薄膜的制备及其光电性能

Preparation and Photoelectric Property of ZnO∶(Al, Sm) Block Films
作者单位
1 大连工业大学 新材料与材料改性省高校重点实验室, 辽宁 大连 116034
2 北京生态岛科技有限责任公司 研发中心, 北京 102402
3 大连工业大学 食品学院, 辽宁 大连 116034
基本信息
DOI: 10.3788/fgxb20173804.0442
中图分类号: TM914
栏目: 材料合成及性能
项目基金: 国家海洋食品工程技术研究中心开放基金(2012FU125X03)、 辽宁省教育厅项目(2016J021)、 辽宁省教育厅重大科技平台(2011-191)资助项目
收稿日期: 2016-08-31
修改稿日期: 2016-10-18
网络出版日期: 2017-05-03
通讯作者: 郭伟华 (gwh1019627@163.com)
备注: --

郭伟华, 郝洪顺, 靳闪闪, 张作顺, 刘妍君, 李国辉, 侯红漫, 张公亮. ZnO∶(Al, Sm)阻挡层薄膜的制备及其光电性能[J]. 发光学报, 2017, 38(4): 442. GUO Wei-hua, HAO Hong-shun, JIN Shan-shan, ZHANG Zuo-shun, LIU Yan-jun, LI Guo-hui, HOU Hong-man, ZHANG Gong-liang. Preparation and Photoelectric Property of ZnO∶(Al, Sm) Block Films[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2017, 38(4): 442.

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