中国激光, 2017, 44 (3): 0303004, 网络出版: 2017-03-08
碳污染清洗工艺对极紫外光刻光学元件反射率的影响
Impact of Carbon Contamination Cleaning Technologies on Reflectivity of Extreme Ultraviolet Lithography Optics
基本信息
| DOI: | 10.3788/cjl201744.0303004 |
| 中图分类号: | O484 |
| 栏目: | 材料与薄膜 |
| 项目基金: | 国家自然科学基金（61404139）、国家科技重大专项（2012ZX02702001-005）、应用光学国家重点实验室自主基金(Y5743FQ158)、吉林省重点科技成果转化项目（20150307039GX） |
| 收稿日期: | 2016-11-04 |
| 修改稿日期: | 2016-12-05 |
| 网络出版日期: | 2017-03-08 |
| 通讯作者: | |
| 备注: | -- |
王依, 卢启鹏, 高云国. 碳污染清洗工艺对极紫外光刻光学元件反射率的影响[J]. 中国激光, 2017, 44(3): 0303004. Wang Yi, Lu Qipeng, Gao Yunguo. Impact of Carbon Contamination Cleaning Technologies on Reflectivity of Extreme Ultraviolet Lithography Optics[J]. Chinese Journal of Lasers, 2017, 44(3): 0303004.
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