脉冲激光烧蚀过程中靶材表面熔融前温度分布与激光功率密度分布的研究
张磊, 王秀凤, 林晓东. 脉冲激光烧蚀过程中靶材表面熔融前温度分布与激光功率密度分布的研究[J]. 光学与光电技术, 2008, 6(1): 0022.
ZHANG Lei, WANG Xiu-feng, LIN Xiao-dong. Target Surface Temperature Distribution Before Melting and Pulsed Laser Power Density Distribution in the Pulsed Laser Ablation Process[J]. OPTICS & OPTOELECTRONIC TECHNOLOGY, 2008, 6(1): 0022.
[1] 张端明，李智华，黄明涛，等．脉冲激光烧蚀块状靶材的双动态界面研究[J]．物理学报，2001，50(5)：914-919．
[2] 张端明，侯思普，关丽，等．脉冲激光制备薄膜材料的烧蚀机理[J]．物理学报，2004，53(7)：2237-2243．
[3] 张端明，李莉，李智华，等．靶材吸收率变化与烧蚀过程熔融前靶材温度分布[J]．物理学报，2005，54(3)：1283-1289．
[4] 谭新玉，张端明，李智华，等．纳秒脉冲激光沉积薄膜过程中的烧蚀特性研究[J]．物理学报，2005，54(8)：3915-3921．
[5] 谭新玉，张端明，李智华，等．脉冲激光制膜技术烧蚀阶段的热特性研究[J]．华中科技大学学报(自然科学版)，2005，33(7)：65-67．
[6] 谭新玉，欧阳美平．超快脉冲激光烧蚀过程中的靶材温度分布[J]．三峡大学学报(自然科学版)，2005，27(4)：382-384．
[7] 余德浩，汤华中．微分方程数值解法[M]．北京：科学出版社，2003．
[8] 郭延龙，张玺，曹海源，等．飞秒脉冲激光沉积类金刚石膜实验研究[J] ．光学仪器，2006，28(4)：60-63．
张磊, 王秀凤, 林晓东. 脉冲激光烧蚀过程中靶材表面熔融前温度分布与激光功率密度分布的研究[J]. 光学与光电技术, 2008, 6(1): 0022. ZHANG Lei, WANG Xiu-feng, LIN Xiao-dong. Target Surface Temperature Distribution Before Melting and Pulsed Laser Power Density Distribution in the Pulsed Laser Ablation Process[J]. OPTICS & OPTOELECTRONIC TECHNOLOGY, 2008, 6(1): 0022.
PDF全文
