查诚 1,2乔辉 1,2顾明剑 1,2
作者单位
摘要
1 中国科学院上海技术物理研究所, 上海 200083
2 中国科学院大学, 北京 100049
随着光伏探测器在傅里叶变换红外(FTIR)光谱探测领域的广泛应用, 光伏型器件的响应非线性现象逐渐成为影响FTIR光谱反演精度的关键问题。文章对光伏探测器的响应非线性进行研究, 首先, 总结了光伏探测器的一般原理与等效电路; 然后, 对导致探测器出现响应非线性的内部效应与外部因素进行分析; 最后, 总结了内外因素之间的关联, 并在结论中给出了对探测器进行非线性校正的工作方向。这对揭示半导体器件对不同通量辐射的响应规律、对于改善研究光伏探测器的非线性问题以及提高FTIR光谱探测精度具有重要的意义。
光伏探测器 光电二极管 非线性响应 傅里叶红外 photovoltaic detector photodiode nonlinear response Fourier infrared 
半导体光电
2023, 44(2): 193
作者单位
摘要
1 中国科学院上海技术物理研究所,上海200083
2 西北核技术研究所,陕西 西安 710024
3 中国科学院大学,北京100049
针对室温工作的光伏型碲镉汞中波红外探测器激光辐照饱和特性进行了仿真,结果表明,中红外激光对碲镉汞材料的加热效应以及光照导致零偏压阻抗降低,是影响探测器输出量子效率的重要因素。利用一维数值仿真方法,建立了室温碲镉汞pn结的模型,计算了稳态激光辐照下器件量子效率以及零偏压阻抗。理论计算了激光辐照下的稳态温度分布近似模型,并将温度场分布耦合到仿真计算中,发现衬底厚度会影响芯片的温升,从而显著影响器件饱和阈值的大小。另外,计算表明,随着光照强度的增加,器件的零偏压阻抗降低,并将仿真结果与实测芯片参数进行了比较。计算分析为设计高饱和辐照度阈值的中波红外碲镉汞探测器提供了参考。
激光辐照 温度场 饱和特性 数值仿真 laser irradiation temperature field saturation properties numerical simulation 
红外与毫米波学报
2023, 42(2): 143
作者单位
摘要
中国科学院上海技术物理研究所 红外成像材料与器件重点实验室上海 200083
研究了碲锌镉衬底(111)晶面的不同极性对水平推舟液相外延生长碲镉汞薄膜的影响。实验结果显示,(111)A面碲锌镉衬底水平液相外延生长碲镉汞薄膜材料组分和厚度均与常规(111)B面碲锌镉衬底碲镉汞薄膜材料相当;碲镉汞母液在采用(111)A面、(111)B面衬底进行液相外延生长的碲镉汞薄膜上接触角分别为50±2°和30±2°,结合微观模型分析确认碲镉汞母液在碲镉汞薄膜(111)A面存在更大的表面张力;观察并讨论了(111)A面碲镉汞与(111)B面碲镉汞薄膜材料表面微观形貌的差别;实验获得的(111)A面碲镉汞薄膜XRD半峰宽为33.1arcsec。首次报道了(111)晶面选择对母液残留的影响,研究结果表明,采用(111)A面碲锌镉衬底进行碲镉汞水平推舟液相外延生长,能够在不降低晶体质量的情况下,大幅减小薄膜表面母液残留。
Hg1-xCdxTe晶体 CdZnTe衬底 液相外延 (111)A面 (111)B面 Hg1-xCdxTe crystal CdZnTe substrate LPE (111)A surface (111)B surface 
红外与毫米波学报
2023, 42(1): 1
作者单位
摘要
1 中国科学院上海技术物理研究所 红外成像材料与器件重点实验室,上海 200083
2 中国科学院大学,北京 100049
报道了基于梯度能带结构的高速室温中波红外HgCdTe器件,器件设计为n-on-p同质结结构,在300 K的零偏压条件下达到了1.33 ns(750 MHz)的总的响应时间,相对于非制冷的碲镉汞器件和工作于高偏压下的碲镉汞APD器件响应速度有所提高。基于一维模型的分析表明,吸收层中的组分梯度可以形成内置电场并改变了载流子的输运特性,该模型由不同组分梯度的HgCdTe器件的实验对比验证。因此,此项工作优化了高速HgCdTe中波红外探测器的设计,并为设计超快中波红外光电探测器提供了一种可行的思路。
碲镉汞 高速 中波红外 组分梯度 HgCdTe high speed mid-wave infrared component gradient 
红外与毫米波学报
2022, 41(6): 972
作者单位
摘要
中国科学院上海技术物理研究所 中科院红外成像材料与器件重点实验室,上海 200083
针对不同项目研制过程中碲镉汞线列光导器件在筛选测试和应用中出现的失效模式进行了归纳和总结,并综合碲镉汞材料参数、器件结构尺寸、器件物理、器件制备工艺和器件测试等几个方面因素对器件失效的可能原因进行了分析,首次提出碲镉汞线列光导器件的优值因子作为失效判据,为进一步理解碲镉汞线列光导器件的物理机理以及更好优化器件的筛选过程提供了参考,为碲镉汞线列光导器件应用中出现的失效问题提供了分析和解决的方向。
碲镉汞 光导器件 失效分析 HgCdTe photoconductive detector photoconductor failure analysis 
红外与毫米波学报
2022, 41(6): 1009
撒鹏花 1,2,3乔辉 1,2马丁 1,2谢晶 1,2李向阳 1,2
作者单位
摘要
1 中国科学院上海技术物理研究所 传感技术国家重点实验室, 上海 200083
2 中国科学院上海技术物理研究所 红外成像材料与器件重点实验室, 上海 20008
3 中国科学院大学 研究生院, 北京 100049
大面阵焦平面成像探测器需要具有随机开窗和反转读出功能, 同时需要降低功耗。文章基于标准数字电路设计流程。设计了一种新型的基于格雷码编码规律的寻址计数器, 用于对阵列的行地址和列地址进行寻址, 提高了寻址的可靠性。对设计进行RTL级仿真, 结果表明该设计能够实现任意开窗和反转读出功能。采用TSMC90工艺库对1024×1024阵列规模的RTL级设计进行分析计算, 结果显示供电电压为3.3V时, 寻址计数器功耗仅为19.56μW,整体设计功耗仅为58.75μW, 适用于大面阵焦平面读出电路的设计。
格雷码 任意开窗 反转读出 读出电路 Gray code dynamic windowing readout dynamic image transposition ROIC 
半导体光电
2020, 41(5): 658
作者单位
摘要
中国科学院上海技术物理研究所 红外成像材料与器件重点实验室,上海 200083
室温下利用阴极荧光光谱技术对ZnSe晶体进行了350~850 nm的无损全光阴极荧光图谱检测,分析了晶体内部缺陷及夹杂情况,室温下测得ZnSe晶体在400~550 nm的阴极荧光光谱,阴极荧光光谱测得462 nm处的ZnSe本征发光峰。缺陷处测得462 nm的本征发光峰和453 nm的缺陷发光峰,结合能谱分析,ZnSe晶体表面缺陷处的Zn:Se比约为6:4。阴极荧光图谱中缺陷处发光峰主要来自Zn夹杂缺陷发光。
ZnSe晶体 阴极荧光光谱(CL) Zn夹杂 ZnSe crystal Cathodoluminescence (CL) Zn inclusion 
红外与毫米波学报
2020, 39(5): 601
作者单位
摘要
中国科学院上海技术物理研究所 红外成像材料与器件重点实验室, 上海 200083
在微重力条件下生长了ZnTe:Cu晶体, 对其进行了光学和能谱分析, 在晶锭尾部最大结晶区对其进行了组分分析.对于尾部的轴向分量, 在空间样品中Cu的成分均匀性优于地面样品, 并且Te/Zn比的样品高于空间样品.尾部空间样品中Cu的径向成分均匀性优于地面样品, 且Te偏析更为严重.
微重力 ZnTe:Cu晶体 能谱分析 microgravity ZnTe:Cu crystal energy dispersive spectrum analysis 
红外与毫米波学报
2019, 38(3): 281
马丁 1,2,3,*乔辉 1,2刘福浩 1,2张燕 1,2李向阳 1,2
作者单位
摘要
1 中国科学院上海技术物理研究所传感技术国家重点实验室, 上海 200083
2 中国科学院上海技术物理研究所红外成像材料与器件重点实验室, 上海 200083
3 中国科学院大学研究生院, 北京 215123
分析了MOS器件的辐照特性及辐照失效机理。基于Global Foundries 0.35μm CMOS工艺, 设计了一款320×256抗辐照加固紫外焦平面读出电路。该电路数字部分MOS管采用环形栅和双环保护进行加固, 并在读出电路表面交替生长了SiO2-Si3N4复合钝化层。对加固后的读出电路进行了γ辐照试验, 并使用示波器实时监测读出电路的输出状态。对比加固前后的读出电路实时辐照状态表明, 加固后的读出电路抗辐照性能得到了明显提高, 其抗电离辐照总剂量由35krad(Si)提升至50krad(Si)。
紫外焦平面 读出电路 抗辐照 电离辐照 UVFPA readout circuit radiation hardening ionizing irradiation 
半导体光电
2018, 39(4): 502
作者单位
摘要
中国科学院上海技术物理研究所中科院红外成像材料与器件重点实验室, 上海 200083
针对碲镉汞光伏器件的暗电流随着物理面积增大而急剧增加, 研究了子像元结构在降低大面积短波碲镉汞光伏器件暗电流方面的有效性。发现子像元结构在室温下相比常规结构可以有效降低器件的暗电流, 但当温度降到 180 K时, 常规结构器件反而具有最小的暗电流, 经过分析认为是子像元边界处引入的表面漏电所致。如果器件的表面态密度和表面固定电荷过多, 会使得子像元边界在低温下引入表面隧穿电流和表面欧姆电流, 这些与边界有关的表面漏电会成为低温下暗电流的主要成分, 从而使子像元结构失去降低器件暗电流的优势。文章中同时给出了低温下子像元结构可以有效降低器件暗电流的条件, 并针对不同的子像元结构, 提出了漏电体积这一参量来评价不同结构子像元降低器件暗电流的效果。
暗电流 子像元 光伏器件 漏电体积 碲镉汞 dark current sub-pixel photovoltaic detector leakage current bulk HgCdTe 
红外技术
2017, 39(6): 489

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