1 海南师范大学物理与电子工程学院海南省激光技术与光电子功能材料重点实验室,半导体激光海南省国际联合研究中心,海南 海口 571158
2 新加坡南洋理工大学电气与电子工程学院,新加坡 639798
3 新加坡南洋理工大学淡马锡实验室,新加坡 637553
4 中国科学院半导体研究所半导体超晶格国家重点实验室,北京 100083
5 长春理工大学高功率半导体激光器国家重点实验室,吉林 长春 130022
2 μm波长附近可调谐半导体激光器在分子光谱学和光通信领域中有广阔的应用前景。基于绝缘体上硅(SOI)平台,对2 μm波长附近可调谐半导体激光器的外腔部分进行了设计优化。分析了不同尺寸光波导的模式损耗特性、单个微环谐振腔受总线波导耦合间距的作用以及总线波导光反馈终端对外腔半导体激光器性能的影响。并提出了一种具有高工艺兼容度的多模环形光波导光反馈结构。所设计的可调谐半导体激光器硅基外腔可通过环形波导上的镍铬合金微加热器进行0.1 nm/K的高精度调谐,对单个微加热器施加3.2 V电压时,调谐范围可达66 nm(1967~2033 nm)。
硅光集成 可调谐外腔半导体激光器 环形谐振腔 光波导终端
1 中国科学院半导体研究所, 北京 100083
2 中国电子科技集团公司第四十一研究所, 山东青岛 266555
光电导天线作为太赫兹时域光谱仪产生与探测太赫兹辐射的关键部件, 具有重要的科研与工业价值。本文采用分子束外延 (MBE)方法制备 InGaAs/InAlAs超晶格作为 1 550 nm光电导天线的光吸收材料, 使用原子力显微镜、光致发光、高分辨 X射线衍射等方式验证了材料的高生长质量; 通过优化制备条件得到了侧面平整的台面结构光电导天线。制备的光电导太赫兹发射天线在太赫兹时域光谱系统中实现了 4.5 THz的频谱宽度, 动态范围为 45 dB。
太赫兹时域光谱仪 光电导天线 分子束外延 InGaAs/InAlAs超晶格 terahertz time-domain spectrometer photoconductive antenna Molecular Beam Epitaxy InGaAs/InAlAs superlattices 太赫兹科学与电子信息学报
2023, 21(12): 1403
陈益航 1,2,3杨成奥 1,2,3王天放 1,2,3张宇 1,2,3[ ... ]牛智川 1,2,3
1 中国科学院半导体研究所 超晶格国家重点实验室, 北京
2 中国科学院大学 材料科学与光电技术学院, 北京
3 中国电子科技集团公司第四十一研究所, 山东 青岛
锑化物半导体激光器是目前能够覆盖中红外波段的主要手段。锑化物半导体激光器经过多年的研究和发展, 已经逐渐的走向成熟。由于在这个波段具有很多气体分子的吸收峰以及具有较高透过率的大气窗口, 使得中红外锑化物半导体激光器在气体检测、材料加工以及自由空间光通信等领域具有重要的作用。
锑化物 中红外激光 气体检测 自由空间光通信 GaSb-based mid-infrared waveband gas detection free space optical communication
1 光电信息控制和安全技术重点实验室,天津 300308
2 中国电子科技集团公司光电研究院,天津 300308
3 中国科学院半导体研究所 半导体超晶格国家重点实验室,北京 100083
4 中国科学院大学 材料科学与光电技术学院,北京 100049
5 晋城市国科半导体研究所,山西 晋城 048000
红外与激光工程
2022, 51(8): 20220493
1 光电信息控制和安全技术重点实验室,天津 300308
2 中国电子科技集团公司光电研究院,天津 300308
3 中国科学院半导体研究所半导体超晶格国家重点实验室,北京 100083
4 中国科学院大学材料科学与光电技术学院,北京 100049
5 晋城市国科半导体研究所,山西 晋城 048006
6 韦斯泰科技(深圳)有限公司,广东 深圳 518000
中国激光
2022, 49(18): 1816002
红外与激光工程
2022, 51(3): 20220106
1 云南师范大学 能源与环境科学学院,云南 昆明 650092
2 中国科学院半导体研究所 半导体超晶格国家重点实验室,北京 100083
3 中国科学技术大学 量子信息与量子科技前沿协同创新中心,安徽 合肥 230026
4 华南师范大学 华南先进光电子研究院,广东省光信息材料与技术重点实验室,电子纸显示技术研究所,国家绿色光电子国际联合研究中心,广东 广州 510006
利用分子束外延技术在GaSb衬底上生长了高质量的InAs/InAsSb(无Ga)Ⅱ类超晶格。超晶格的结构由100个周期组成,每个周期分别是3.8 nm厚的InAs层和1.4 nm厚的InAs0.66Sb0.34层。在实验过程中出现了一种特殊的尖峰状缺陷。利用高分辨率x射线衍射(HRXRD)、原子力显微镜(AFM)和傅里叶变换红外光谱(FTIR)对外延的超晶格进行了表征和分析。结果表明,优化后的样品几乎为零晶格失配,超晶格0级峰半峰宽为39.3 arcsec,表面均方根粗糙度在10 μm×10 μm范围内达到1.72 ?。红外吸收光谱显示50%的截止波长为4.28 μm,PL谱显示InAs/InAs0.66Sb0.34超晶格4.58 μm处有清晰锐利的发光峰。这些结果表明,外延生长的InAs/InAsSb超晶格稳定性和重复性良好,值得进一步的研究。
InAs/InAsSb 超晶格 分子束外延 Ⅲ-Ⅴ族半导体材料 InAs/InAsSb superlattice MBE Ⅲ-Ⅴ semiconductor materials
红外与激光工程
2021, 50(3): 20200224