1 中国科学院 微电子研究所 纳米加工与新器件集成技术重点实验室,北京 100029
2 北京工业大学 激光工程研究院,北京 100022
针对X射线透射光栅摄谱仪中对高线密度聚焦变栅距光栅的需要,利用电子束光刻技术,研制了X射线透射变栅距光栅。利用变栅距光栅的自动生成宏文件程序,优化设计了变栅距光栅的版图,然后利用电子束光刻和微电镀技术在聚酰亚胺薄膜底衬上制备了X射线透射变栅距光栅。制作出中心线数为2000 lp/mm X射线透射变栅距光栅,栅距变化符合设计要求。衍射效率标定的结果表明,制备的变栅距光栅在中心波长处聚焦作用明显,可以大幅提高衍射光强度和光栅的分辨本领,具有重要的应用价值。
衍射光学 变栅距光栅 X射线透射光栅 电子束光刻
1 中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成技术实验室, 北京 100029
2 中国工程物理研究院高温高密度等离子等国家重点实验室, 四川 绵阳 621900
针对X射线透射光栅摄谱仪中的高线密度光栅,研究了采用电子束曝光和X射线曝光技术结合制作高线密度X射线透射光栅的工艺技术。首先利用电子束曝光和微电镀技术在镂空的薄膜上制备母光栅X射线掩模版,然后利用X射线曝光和微电镀技术小批量复制光栅。在国内首次完成了3333 lp/mm X射线透射光栅的研制,栅线宽度为150 nm,周期为300 nm,金吸收体厚度为500 nm。衍射效率标定的结果表明,该光栅的占空比合理、侧壁陡直,具有良好的色散特性,能够满足空间探测、同步辐射和变等离子诊断等多个领域的应用。
X射线透射光栅 电子束光刻 X射线光刻 高线密度光栅
