为了提高锗基底的透过率和环境适应性, 镀制了增透保护膜。应用电子枪蒸发加霍尔离子源辅助的方法沉积了碳化锗(Ge1-xCx)薄膜。通过固定霍尔离子源参数, 控制沉积速率的工艺得到了不同光学常数的碳化锗薄膜。X射线衍射(XRD)测试表明, 所制备的碳化锗薄膜在不同的沉积速率下均为无定形结构。采用傅立叶变换红外(FTIR)光谱仪测量了试片的透过率, 使用包络法获得了相应工艺条件下的光学常数。在锗基底上双面镀制碳化锗增透膜后, 长波红外7.5～11.5 μm波段的平均透过率Tave＞85%。经过环境实验之后的碳化锗膜层完好, 证明碳化锗增透膜具有良好的环境适应性。

硒化锌材料具有较宽的透光区,使其在红外区有着广泛的应用,然而其作为基底,镀制超宽带增透膜却有相当大的难度,尤其是膜层强度问题。设计出了硒化锌基底上2-16 μm的多层超宽带增透膜,并采用离子束辅助沉积工艺在硒化锌基底上进行了多次实验,并对所使用的氟化钇(YF3)和硒化锌膜料进行了分析,发现YF3在3400和1640 cm-1两个波数处的吸收峰。通过将低折射率层改为氟化钡和氟化钇的组合层后,在硒化锌基底上成功镀制出了多层宽带增透膜并采用脉冲电弧离子镀技术在多层薄膜的表面镀制了一定厚度的类金刚石(DLC)薄膜,增强了膜层的强度。最终使硒化锌基底上镀制的超宽带增透膜在2-16 μm范围内的平均透射比大于93%,峰值透射比大于97%,并且膜层的强度较好。

硫化锌(ZnS)透镜由于其透光区域较宽，便于光学系统的装校而被经常应用于红外光学系统中，但是其作为基底，镀制中长波红外增透膜却具有相当大的难度，尤其是牢固度的问题。根据任务要求研制的增透膜是在3.5～3.9 μm的中波红外波段及9～12 μm的长波红外波段，平均透射率大于90%。由于长波红外区可选用的宽透射区材料较少，所以兼顾材料的选用、光谱特性及可靠性满足使用要求等几方面考虑，最终采用氟化钇(YF3)作为低折射率材料，经过多次实验，采用混蒸、离子辅助等工艺方法以及选取合适的基底温度，通过对其他工艺环节的不断改进，解决了在ZnS透镜上镀制宽带增透膜，由YF3膜层严重的应力作用而导致膜层龟裂的问题，最终研制成功符合使用要求，并且可靠性和光谱特性皆优的中长波红外增透膜。