湖北工业大学机械工程学院现代制造质量工程湖北省重点实验室, 湖北 武汉 430068
提出了一种基于图像融合和插值预测的自适应条纹投影方法。该方法首先基于多幅掩模图像融合求取了最佳投影灰度值所需的饱和阈值,并结合插值预测查找算法求得了最佳投影灰度值;然后通过降低整体投影强度,在不饱和情况下进行了坐标匹配,最终生成自适应条纹;最后将生成的自适应条纹投射至被测物体,并利用外差式多频相移法进行了相位解算和三维面形重构。实验结果表明:所提方法实现了局部过曝区域的相位信息的完整提取,绝对方向和正向的平均误差与标准偏差值均小于传统方法,且绝对方向平均误差减少了84.1%,正向标准偏差值减少了69.4%。所提方法有效地解决了高反光物体三维面形测量的难题。
测量 面形测量 高反光表面 自适应条纹 图像融合 插值预测 多频相移
1 上海大学机电工程与自动化学院上海市智能制造及机器人重点实验室, 上海 200072
2 数字制造装备与技术国家重点实验室, 湖北 武汉 430074
对空间复用的光场成像技术进行了建模，从光学器件对光场变换的角度阐释了光场复用的机制，建立了标准光场和像素光场的关系，并提出了基于多频相移的光场标定方法。在Lytro光场相机的标定实验中，确定了微透镜中心位置，像素与微透镜的所属关系，恢复了光场信息，并将光场信息应用于重聚焦和全聚焦。实验结果验证了光场模型的正确性和标定方法的可行性。
成像系统 光场成像 标定 多频相移 重聚焦 全聚焦 光学学报
2014, 34(12): 1211005
