1 中国科学院 微电子研究所 纳米加工与新器件集成技术重点实验室,北京 100029
2 北京工业大学 激光工程研究院,北京 100022
针对X射线透射光栅摄谱仪中对高线密度聚焦变栅距光栅的需要,利用电子束光刻技术,研制了X射线透射变栅距光栅。利用变栅距光栅的自动生成宏文件程序,优化设计了变栅距光栅的版图,然后利用电子束光刻和微电镀技术在聚酰亚胺薄膜底衬上制备了X射线透射变栅距光栅。制作出中心线数为2000 lp/mm X射线透射变栅距光栅,栅距变化符合设计要求。衍射效率标定的结果表明,制备的变栅距光栅在中心波长处聚焦作用明显,可以大幅提高衍射光强度和光栅的分辨本领,具有重要的应用价值。
衍射光学 变栅距光栅 X射线透射光栅 电子束光刻
1 合肥工业大学仪器仪表学院, 安徽 合肥 230009
2 安徽师范大学物理系,安徽 芜湖241000
3 中国科学技术大学国家同步辐射实验室,安徽 合肥 230029
为了制作平面变线密度光栅，满足线密度变化的要求，采用两个点光源和辅助透镜对基底曝光。编写了第一代和第二代光路的计算程序，计算出拍摄光路的几何位置参量，依据实际情况选择光路。提出了在线检测波前的方法，将辅助的标准光栅放在基底的位置上，入射光被标准光栅衍射，衍射光在光栅表面的干涉条纹反映了入射光的波前分布。采用数码相机和辅助镜拍摄干涉条纹，编写条纹分析程序，根据条纹调节元件的位置，直到入射波前满足要求后，对涂有光刻胶的基底曝光，制作出了原型的变线密度光栅。波前检测方法也可以用于其他全息光栅的制作中。
仪器 变线密度光栅 全息 制作 波前
