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   将选定结果: 

 W/SiO2基太阳光谱选择性吸收薄膜的制备和表征

郭帅 吴莹 古同 胡二涛

[摘要]采用磁控溅射镀膜仪制备了基于过渡金属W和介质SiO2的6层薄膜样品, 膜系结构为Cu (>100.0 nm)/SiO2(63.5 nm)/W(11.0 nm)/SiO2(60.0 nm)/W(5.4 nm)/SiO2(75.5 nm)。在250~2500 nm的波长范围内, 该样品的太阳光吸收率...

 PDF全文光学学报 | 2019, 39(05):0531001

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