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 MEMS硅半球陀螺球面电极成形工艺

庄须叶 喻磊 王新龙 李平华 吕东锋 郭群英

[摘要]由于球面电极是曲面结构, 电极各处的电感耦合等离子体(ICP)刻蚀深度不一致, 在加工过程中常发生球面电极还未刻蚀到位而谐振器已被破坏的现象, 故本文提出了新的球面电极成形工艺。基于ICP刻蚀固有的lag效应, 采用刻蚀...

 PDF全文光学 精密工程 | 2016, 24(11):2746

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