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 浸没式光刻机对焦控制技术研究

段晨 宗明成 范伟 孟璐璐

[摘要]随着大规模集成电路芯片制造步入十几纳米技术节点时代,光刻机的对焦控制变得越来越困难,其精度需要达到几十纳米。基于实际的光刻机对焦控制系统架构和光刻对焦原理,开展了浸没光刻对焦控制统计分析方法研究。根据...

 PDF全文光学学报 | 2018, 38(09):0912002

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