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 基于金属掩模的全息光刻微纳光栅制备工艺

龚春阳 范杰 邹永刚 王海珠 赵鑫 马晓辉 崔超 宋子男

[摘要]优化设计了基于金属掩模的全息光刻微纳光栅制备工艺方案,基于GaAs衬底利用全息光刻和感应耦合等离子体(ICP)干法刻蚀技术制备出周期为860 nm的光栅图形。将磁控溅射生长的金属硬掩模作为光栅刻蚀的阻挡层引入到刻蚀工...

 PDF全文中国激光 | 2019, 46(12):1203001

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