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   将选定结果: 

 膜厚均匀性函数的分析

高晓丹 张晓晖 陈清明 潘峰

[摘要]为了解决膜层层数在一百多层以上的膜系在镀制过程中所必然存在的膜厚均匀性问题,定义了一个与镀膜机的结构参数、工艺参数以及基片几何参数均有关系的均匀性函数.以APS1104镀膜机为实验对象,针对多腔窄带滤光片膜系,根...

 PDF全文光学仪器 | 2006, 28(04):154-158

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