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 基于衍射谱分析的全芯片光源掩模联合优化关键图形筛选

廖陆峰 李思坤 王向朝 张利斌 张双 高澎铮 韦亚一 施伟杰

[摘要]提出了一种全芯片光源掩模联合优化的关键图形筛选方法,用图形的主要频率表征图形的特征,用主要频率的位置和轮廓信息描述主要频率在频域上的分布特征。设计了相应的主要频率提取方法、覆盖规则、聚类方法以及关键图形...

 PDF全文光学学报 | 2020, 40(21):2122001

 一种检测光刻机激光干涉仪测量系统非正交性的新方法

何乐 王向朝 马明英 施伟杰 王帆

[摘要]提出一种精确检测光刻机激光干涉仪测量系统非正交性的新方法。将对准标记曝光到硅片表面并进行显影;利用光学对准系统测量曝光到硅片上的对准标记理论曝光位置与实际读取位置的偏差;由推导的位置偏差与非正交因子、坐...

 PDF全文中国激光 | 2007, 34(08):1130-1135

 二维机械准直器准直光束的衍射

贾辉 姚勇 施伟杰

[摘要]把入射光作为从不同方向入射的空间光,应用傅里叶光学的方法分析了通过机械准直器中一组不同间距的栅格挡光片的物理过程。建立了准直光束的理论计算公式, 给出了采用数值方法精确计算准直光束的主要步骤和计算中应注意...

 PDF全文光学学报 | 2007, 27(08):1377-1381

 一种步进扫描投影光刻机承片台不平度检测新技术

何乐 王向朝 王帆 施伟杰 马明英

[摘要]提出一种步进扫描投影光刻机承片台不平度检测新技术。在晶圆与承片台存在不同偏移量时,利用线性差分传感器在线测量晶圆上不同点的局部高度;通过建立临时边界条件,以递推法消除晶圆面形影响,并逐行计算出承片台的相对...

 PDF全文光学学报 | 2007, 27(07):1205-1210

 浸没式光刻技术的研究进展

袁琼雁 王向朝 施伟杰 李小平

[摘要]浸没式光刻技术是将某种液体充满投影物镜最后一个透镜的下表面与硅片之间来增加系统的数值孔径, 可以将193 nm光刻延伸到45 nm节点以下。阐述了浸没式光刻技术的原理, 讨论了液体浸没带来的问题, 最后介绍了浸没式光刻...

 PDF全文激光与光电子学进展 | 2006, 43(08):13-20

 光刻机硅片表面不平度原位检测技术

张冬青 王向朝 施伟杰

[摘要]随着光刻特征尺寸的不断减小,硅片表面不平度对光刻性能的影响越来越显著.该文提出了一种新的硅片表面不平度的原位检测技术本文在分析特殊测试标记成像规律的基础上,讨论了测试标记的对准位置偏移量与硅片表面起伏...

 PDF全文光子学报 | 2006, 35(12):1975-1979

 基于人工神经网络权值优化的投影光刻机像质校正灵敏矩阵的计算方法

施伟杰 王向朝 张冬青 王帆

[摘要]像质校正灵敏矩阵是像质校正算法中由像质参数计算像质校正参数的过渡矩阵。矩阵中的元素表征了像质参数随像质校正参数变化的灵敏程度。像质校正灵敏矩阵是投影光刻机像质校正算法中重要的参数集合。提出了一种投影光...

 PDF全文中国激光 | 2006, 33(04):516-520

 一种新的光刻机多成像质量参数的原位检测技术

王帆 王向朝 马明英 张冬青 施伟杰

[摘要]随着光刻特征尺寸的不断减小,尤其是随着分辨力增强技术的使用,像质参数的原位检测已成为先进的投影光刻机中不可或缺的功能。然而现有的每种技术均只能检测有限的几种像质参数。提出了一种新的基于像传感器的光刻机...

 PDF全文中国激光 | 2006, 33(04):543-548

 基于光学对准的光刻机投影物镜密集线焦深原位检测技术

施伟杰 王向朝 张冬青 王帆

[摘要]提出了一种检测光刻机投影物镜密集线焦深(DOF)的新技术。该技术将具有精细结构的测量标记曝光在硅片上,硅片显影后,由光学对准系统获取曝光在硅片上的测量标记图形的对准位置信息,根据对准位置信息计算得到视场中各...

 PDF全文中国激光 | 2006, 33(01):85-90

 基于套刻误差测试标记的彗差检测技术

马明英 王向朝 王帆 施伟杰 张冬青

[摘要]为了满足光刻机投影物镜彗差测量精度的要求,提出一种基于套刻误差测试标记的彗差检测技术,分析了彗差对套刻误差测试标记空间像的影响,详细叙述了该技术的测量原理,并利用PROLITH光刻仿真软件对不同数值孔径与部分相干...

 PDF全文光学学报 | 2006, 26(07):1037-1042

 光刻机投影物镜的像差原位检测新技术

张冬青 王向朝 施伟杰 2王帆

[摘要]提出了一种新的光刻机投影物镜像差原位检测(AMF)技术。详细分析了该技术利用特殊测试标记检测投影物镜球差、像散、彗差的基本原理,论述了该技术利用对准位置坐标计算像差引起的成像位置偏移量的方法。实验结果表明AM...

 PDF全文光学学报 | 2006, 26(05):679-684

 基于双线空间像线宽不对称度的彗差测量技术

王帆 王向朝 马明英 张冬青 施伟杰

[摘要]在高数值孔径、低工艺因子的光刻技术中,投影物镜彗差对光刻质量的影响变得越来越突出,因而需要一种快速、高精度的彗差原位测量技术。为此提出了一种新的基于双线空间像线宽不对称度的彗差测量技术,利用国际上公认的半...

 PDF全文光学学报 | 2006, 26(05):673-678

 基于镜像焦面检测对准标记的套刻性能原位测量技术

施伟杰 王向朝 张冬青 马明英 王帆

[摘要]套刻性能是现代高精度步进扫描投影光刻机的重要性能指标之一。提出了一种基于镜像焦面检测对准标记(简称“镜像焦面检测对准标记”)的光刻机套刻性能原位测量技术。该技术通过对曝光在硅片上的镜像焦面检测对准标记图...

 PDF全文光学学报 | 2006, 26(03):398-402

 一种新的光刻机像质参数热漂移检测技术

张冬青 王向朝 施伟杰 马明英 王帆

[摘要]提出了一种新的光刻机像质参数热漂移原位检测技术(TDFM)。详细分析了该技术利用镜像测试标记检测投影物镜最佳焦面热漂移与放大倍率热漂移的基本原理。实验结果表明TDFM技术可同时实现最佳焦面热漂移(FFT)与放大倍率热...

 PDF全文中国激光 | 2005, 32(12):1668-1672

 光刻机投影物镜像差的现场测量技术

王帆 王向朝 马明英 张冬青 施伟杰

[摘要]为了在光刻机工作过程中保证投影物镜的成像质量,人们开发了一系列投影物镜像差的现场测量技术。对目前国际上常用的几种高精度投影物镜像差现场测量技术进行了分析和比较。

 PDF全文激光与光电子学进展 | 2004, 41(06):35-39

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