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 光学薄膜的温度场设计

范正修 汤雪飞

[摘要]提出了光学薄膜温度场设计的概念,研究分析了薄膜光学性质和热、物性质对其温度场的影响。给出了相变光盘薄膜和高功率激光反射膜的具体设计。还给出了相变膜的写入、擦除功率和激光反射膜的破坏阈值。

 PDF全文光学学报 | 1995, 15(04):463-467

 双离子束溅射沉积薄膜的光学特性与激光损伤研究

汤雪飞 范正修 王之江

[摘要]对氧化物薄膜的双离子束溅射沉积作了系统地实验研究。考察了离子束溅射工艺参数对薄膜光学特性的影响,制备了折射率接近于块材料的TiO2和ZrO2薄膜,显著降低了TiO2、ZrO2和SiO2薄膜的光吸收损耗,TiO2和ZrO2薄膜的抗...

 PDF全文光学学报 | 1995, 15(02):217-224

 重复率激光对光学薄膜的破坏

范正修 吴周令 汤雪飞

[摘要]实验研究了在不同波长、不同脉宽激光作用下,光学薄膜破坏的重复率效应并结合理论分析和在破坏过程中的光热监测,探讨了光学薄膜累积破坏的机理。

 PDF全文中国激光 | 1994, 21(09):734-738

 离子束溅射沉积光学薄膜速率分布

汤雪飞 范正修 王之江

[摘要]本文应用高斯型离子束流强度分布计算了离子束溅射沉积光学薄膜的沉积速率分布,结果表明,沉积速率空间分布偏离余弦分布,峰值位置随溅射离子束入射角改变并受离子束高斯半径的影响。实验结果与之相符。

 PDF全文中国激光 | 1993, 20(05):345-348

 氧化物薄膜的离子束溅射沉积

汤雪飞 范正修 王之江

[摘要]用离子束溅射沉积的方法制备的TiO2、ZrO2薄膜的光吸收损耗明显降低,对其折射率、光吸收和抗激光损伤阈值等特性进行了分析.

 PDF全文光学学报 | 1992, 12(05):473-475

 激光辐射致热单层薄膜温度响应

汤雪飞 范正修 王之江

[摘要]用热传导方程计算了在脉宽10ns、波长1.06μm的激光辐射下,TiO_2单层膜的温度场分布.结果表明:膜层的热参数增大,其峰值温度明显降低,而基板热参数变化对膜层温度响应影响很小,温度场分布由电场分布决定,1/4波长薄膜的...

 PDF全文光学学报 | 1992, 12(11):1032-1037

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