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 基于聚类全局优化算法的薄膜设计优化技术的研究

李资政 杨海贵 王笑夷 王彤彤 申振峰 高劲松

[摘要]基于聚类全局优化算法提出了一种新的薄膜设计优化方法,它可以迭代地改变初始膜系结构,相比传统的局域优化技术,能够计算得更加全面、彻底.即使初始膜系和设计目标差距非常大,这种聚类全局优化方法依然能够优化出很好的...

 PDF全文光学学报 | 2015, 35(09):0931001

 特定折射率材料及光学薄膜制备

申振峰

[摘要]根据太阳电池阵激光防护膜性能优化的需要, 应用离子辅助电子束双源共蒸工艺方法制备了优化设计所需的特定折射率的薄膜材料并用于制备激光防护膜。测试结果显示: 用该工艺方法制备的掺杂材料薄膜的折射率n=175, 与优...

 PDF全文中国光学 | 2013, 6(06):900-905

 月基极紫外相机多层膜反射镜

刘震 高劲松 陈波 王彤彤 王笑夷 申振峰 陈红

[摘要]月基极紫外相机用于月球表面对地球等离子体层辐射出的30.4 nm谱线进行成像观测, 多层膜反射镜是月基极紫外相机的重要光学元件。 根据月基极紫外相机技术参数, 选择了B4C/Mg, B4C/Mg2Si, B4C/Al, B4C/Si, Mo/Si等材料...

 PDF全文光谱学与光谱分析 | 2013, 33(01):283-286

 月球表面环境对Mo/Si多层膜光学特性的影响

刘震 高劲松 陈波 王彤彤 王笑夷 申振峰 陈红

[摘要]研究了月球表面高温、强辐射的空间环境下Mo/Si多层膜的热稳定性和辐照稳定性。Mo/Si多层膜采用磁控溅射法镀制,将制备好的多层膜在100 ℃和200 ℃高温下加热,利用激光等离子体反射率计和X射线衍射仪(XRD)对加热前后...

 PDF全文光学学报 | 2012, 32(09):0931001

 高透光率感性网栅膜的电磁屏蔽

刘小涵 赵晶丽 冯晓国 申振峰 高劲松 张红胜

[摘要]在确保制作感性网栅膜后光学窗红外透射率下降小于5%的前提下, 研究了影响感性网栅膜电磁屏蔽特性的主要因素。归纳了感性网栅膜红外透射率公式, 运用含阻抗边界条件的谱域Galerkin法推导了周期结构金属网栅的电磁场积...

 PDF全文光学 精密工程 | 2012, 20(01):80-87

 用低压反应离子镀技术制备的类金刚石薄膜及其表征

单兆会 高劲松 王彤彤 申振峰 陈红

[摘要]以Ar气作为工作气体,CH4作为反应气体,利用低压反应离子镀(RLVIP)技术在Ge基底 上成功制备出类金刚石(DLC)薄膜。通过拉曼光谱、Perking Elmer GX型红外光谱仪和Nano Indenter XP型纳米压痕硬度测试计分 别表征了类金...

 PDF全文红外 | 2011, 32(08):8-11

 空间用SiC反射镜表面改性的性能和可靠性评估

申振峰 高劲松 陈红 王笑夷 王彤彤 郑宣鸣

[摘要]根据空间应用项目需求, 采用等离子辅助电子束蒸发方法对RB-SiC基底进行了表面改性, 并对表面改性的性能和可靠性进行了相关评估.经测试, 改性后RB-SiC基底表面粗糙度(rms)降低到0.632 nm; 散射系数降低到2.81%, 500~1...

 PDF全文光子学报 | 2009, 38(09):2353-2358

 SiO2单层膜的反常色散研究

李香波 高劲松 王彤彤 王笑夷 陈红 郑宣明 申振峰 朱华新 尹少辉 刘小涵 王珊珊

[摘要]利用等效折射率概念分析了SiO2单层膜反常色散出现的原因,并在1.1 m镀膜机上证明了理论分析的合理性.结果表明,理论分析与实验结果一致,沿薄膜厚度方向折射率的对称周期变化使薄膜的等效折射率变化在可见光波段与致...

 PDF全文光子学报 | 2009, 38(08):2006-2010

 空间反射镜基底材料碳化硅表面改性研究

高劲松 申振峰 王笑夷 王彤彤 陈红 郑宣鸣

[摘要]直接抛光后的SiC反射镜表面光学散射仍较大,无法满足高质量空间光学系统的应用需求。为此必须对SiC反射镜进行表面改性,以获得高质量的光学表面。目前国际上较为流行的是制备Si或SiC改性层进行表面改性。分别采用离子...

 PDF全文光学学报 | 2009, 29(09):2624-2629

 SiC空间反射镜材料及其表面改性技术现状分析

高劲松 申振峰 王笑夷 王彤彤 陈红 郑宣鸣

[摘要]SiC材料具有良好的物理特性和机械特性,是制备大口径空间反射镜的主要候选材料之一,而SiC反射镜的制备、加工及其表面改性技术是推动高水平空间光学系统应用的重要条件。本文从实际工程应用的角度出发,分析了几种常用S...

 PDF全文中国光学 | 2009, 2(02):71-78

 RB-SiC基底反射镜表面改性工艺的改进

申振峰 高劲松 王笑夷 王彤彤 陈红 郑宣鸣

[摘要]为了满足空间用大口径、复杂轻量化结构RB-SiC基底反射镜对高性能表面质量的需求,针对RB-SiC基底的特性,提出了改进表面改性工艺的方法。采用高能量考夫曼离子源辅助,预先对基底进行碳化和加镀C缓冲层,并制备Si改性涂层...

 PDF全文光学 精密工程 | 2009, 17(05):969-974

 结合傅里叶变换合成法设计均匀薄膜

朱华新 高劲松 王笑夷 王彤彤 陈红 郑宣明 申振峰 李香波 尹少辉 刘小涵 王珊珊

[摘要]基于傅里叶变换合成法的基本原理, 合成了一个K9基底上的负滤光片, 合成的渐变折射率薄膜具有期望光学特性, 但实际制备难度很大, 因此将其细分为足够多层离散折射率的均匀薄膜, 由于实际薄膜材料种类有限, 不能获得任...

 PDF全文光学学报 | 2008, 28(12):2436-2440

 反应烧结碳化硅表面改性的初步研究

王彤彤 高劲松 王笑夷 陈红 郑宣鸣 范镝 申振峰

[摘要]应用电子束蒸发硅,霍尔离子源电离甲烷,并辅助沉积的方法在反应烧结碳化硅(RB SiC)基底上沉积了碳化硅(SiC:H)改性薄膜。X射线衍射(XRD)测试表明制备的碳化硅改性薄膜为α相。通过控制沉积速率,制备了硬度为9.781~13....

 PDF全文光学 精密工程 | 2008, 16(09):1603-1607

 RLVIP技术制备Ge1-xCx薄膜的X射线光电子能谱

王彤彤 高劲松 宋琦 王笑夷 陈红 郑宣鸣 申振峰

[摘要]应用低压反应离子镀(RLVIP)技术在Ge基底上沉积了Get1-xCx薄膜.制备过程中,低压等离子源作为辅助等离子源,Ge作为蒸发材料,CH4作为反应气体,在相同的沉积条件下以不同的沉积速率制备了C含量(x)从0.23到0.78的Ge1-xCx薄...

 PDF全文光学 精密工程 | 2008, 16(04):565-569

 离子辅助制备碳化硅改性薄膜

陈红 高劲松 宋琦 王彤彤 申振峰 王笑夷 郑宣鸣 范镝

[摘要]介绍了一种利用霍尔型离子源辅助电子束蒸发,在反应烧结碳化硅(RB-SiC)材料上制备硅改性薄膜的方法,研究了不同沉积速率下薄膜改性后的抛光效果.对样品进行了表面散射及反射的测量.通过样品的显微照片可知,硅膜层在沉积...

 PDF全文光学 精密工程 | 2008, 16(03):381-385

 离子源辅助电子枪蒸发制备Ge1-xCx薄膜

王彤彤 高劲松 王笑夷 宋琦 郑宣明 徐颖 陈红 申振峰

[摘要]应用电子枪蒸发纯Ge,考夫曼离子源辅助的方法在Ge基底上沉积了Ge1-xCx薄膜.制备过程中,Ge作为蒸发材料,CH4作为反应气体.通过改变CH4/(CH4+Ar)的气体流量比(G),制备了G从40%到85%的Ge1-xCx薄膜.应用X射线衍射仪(XRD)测...

 PDF全文光子学报 | 2007, 36(04):715-718

 用低压反应离子镀的方法制备Ge1-xCx单层非均匀增透膜的研究

王彤彤 高劲松 王笑夷 宋琦 陈红 郑宣明 申振峰 单兆会

[摘要]用低压反应离子镀(RLVIP)的方法在Ge基底上制备了Ge1-xCx单层非均匀增透薄膜。随着沉积速率在0.05~0.4nm/s之间的变化,其折射率在2.31~3.42之间可变。实验结果表明,镀制的Ge1-xCx单层非均匀增透保护薄膜均为...

 PDF全文光学技术 | 2007, 33(02):0302-304

 低压反应离子镀制备Ge1-xCx薄膜的硬度研究

王彤彤 高劲松 王笑夷 宋琦 陈红 郑宣明 申振峰 单兆会 凌伟

[摘要]应用低压反应离子镀的薄膜制备方法在Ge基底上沉积了Ge1-xCx薄膜,随着沉积速度在0.1nm/s~0.9nm/s之间变化,Ge1-xCx薄膜的硬度在2.12 GPa~11.066 GPa之间可变,当沉积速率为0.9nm/s时,Ge1-xCx薄膜最大硬度为11.066 GPa...

 PDF全文光学仪器 | 2006, 28(04):79-82

 时域有限差分法在一维光子晶体数值模拟方面的研究

宋琦 高劲松 王笑夷 王彤彤 陈红 郑宣鸣 申振峰 凌伟

[摘要]介绍了时域有限差分法的基本原理,并对一维光子晶体薄膜中传播的电磁场作了模拟和分析.通过对光子晶体透射谱的研究,讨论了不同周期数和不同介电常数比对光子晶体带隙的影响,最后通过在周期介质层状结构中引入缺陷层构...

 PDF全文光学仪器 | 2006, 28(04):37-42

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