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 硅基周期槽结构的刻蚀工艺研究

魏玉明 陈长英 陈 麟

[摘要]针对微电子机械系统(MEMS)湿法槽刻蚀技术,基于硅材料各向异性腐蚀特性研究了硅基周期槽的湿法刻蚀工艺,得出了优化的光刻参数。通过对比实验详细分析了搅拌在腐蚀过程中起到的重要作用,实验结果显示,搅拌可以增加腐蚀...

 PDF全文光学仪器 | 2016, 38(03):272

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