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 成像掩模探测器信号与波前相位平均梯度平方和线性关系验证

王斌 马良 杨慧珍 龚成龙

[摘要]基于模型的无波前探测自适应光学系统具有收敛速度快、校正效果好的优势,在实时波前校正中具有较大的应用潜力。成像掩模探测器信号SMD与波前相位的平均梯度平方和SMG 之间的线性关系是系统控制算法设计的基础。为了验...

 PDF全文中国激光 | 2018, 45(06):0605001

 光纤布拉格光栅损耗特性的测量与分析

王迪 皮浩洋 李璇 杨飞 叶青 蔡海文

[摘要]提出一种在线同步监测光纤布拉格光栅(FBG)损耗与折射率增长的方法,深入分析FBG的损耗特性在刻写时的演变过程,实验结果显示FBG的损耗系数α随耦合系数κ线性增长。为了优化FBG的损耗性能,采用损耗-耦合斜率系数α/...

 PDF全文中国激光 | 2018, 45(06):0606004

 车削掩模的石英非球面微透镜阵列制作方法

王 灏 董连和 朱国栋 张 东 张为国

[摘要]为解决石英非球面微透镜阵列加工所面临的工艺可控性差且面型精度不高这两大难点,提出了一种基于车削掩模刻蚀的石英玻璃元件制作方法。该方法主要使用了单点金刚石车削加工技术与反应离子刻蚀技术,研究了掩模材料车...

 PDF全文光电工程 | 2018, 45(04):170671

 ICP刻蚀对光刻胶掩模及刻蚀图形侧壁的影响

李雅飞 李晓良 马英杰 陈洁珺 徐 飞 顾 溢

[摘要]采用AZ1500光刻胶作为掩模对GaAs和InP进行ICP刻蚀, 研究了刻蚀参数对光刻胶掩模及刻蚀图形侧壁的影响。结果表明, 光刻胶的碳化变性与等离子体的轰击相关, 压强、ICP功率和RF功率的增加以及Cl2比例的减小都会加速光刻...

 PDF全文半导体光电 | 2018, 39(02):216

 扫描干涉场曝光中光栅掩模槽形轮廓的预测

鲁森 杨开明 朱煜 王磊杰 张鸣

[摘要]根据扫描干涉场曝光的特点,针对光刻胶层内曝光量的驻波效应,建立了动态曝光模型。基于快速推进法建立了显影模型,得到了光栅掩模槽形的演变规律。为减弱驻波效应的影响,提出了一种抗反射层最优厚度的设计方法。仿...

 PDF全文光学学报 | 2018, 38(05):0505001

 基于改进型结构分解的极紫外光刻掩模衍射谱快速仿真方法

张恒 李思坤 王向朝

[摘要]对极紫外光刻掩模的吸收层和多层膜分别建模, 将二者组合以实现对具有复杂图形分布的掩模衍射谱的快速精确仿真。对存在图形偏移的吸收层, 采用扩展的边界脉冲修正法进行仿真。对无缺陷及含缺陷的多层膜, 分别采用等效...

 PDF全文光学学报 | 2018, 38(01):0105001

 用于FBG刻写的小型准分子激光器实验研究

张威 方晓东 梁勖

[摘要]248 nm的KrF准分子激光是光纤布拉格光栅(FBG)的首选刻蚀光源。针对FBG的刻写要 求,研制了一台小型化KrF准分子激光器,并进行了机械结构设计和改进。实验研究了充电电压、 放电电容、工作气体配比和储气腔内的气体压力...

 PDF全文量子电子学报 | 2018, 35(03):300

 储备池计算硬件实现方案研究进展

李磊 方捻 王陆唐 黄肇明

[摘要]储备池计算是一种适合处理时序信号的简单高效的机器学习算法。相比在传统电子计算机上用软件实现的方式, 储备池计算在光器件上的实现方式将更有利于超高速和超低功耗的信息处理。介绍了储备池计算的基本原理, 从输入...

 PDF全文激光与光电子学进展 | 2017, 54(08):080005

 光纤布拉格光栅制作中心波长控制技术

唐健峰 季树滨 车雅良 张灵艺 张引发

[摘要]为了解决光纤布拉格光栅制作中波长控制的问题,提高已有方案的精度,提出了一种基于相位掩模法刻写布拉格光栅过程中拉力调节和紫外光补偿的光栅刻写波长两步控制法。在光纤两端悬挂砝码调节其所受拉力,使刻写光栅的...

 PDF全文激光与光电子学进展 | 2017, 54(07):070604

 基于光纤激光表面改性的不锈钢微细电解加工技术

李小海 薛贝贝 王淑铭 张 霞 黄德臣 史立秋

[摘要]将光纤激光表面改性技术和微细电解加工技术相结合,在不锈钢表面加工复杂微细型腔等微小零件。先利用光纤激光在304不锈钢表面制作掩模图案;再利用掩模的耐腐蚀性,在微细电解加工时实现微细型腔的定域加工。研制了光...

 PDF全文激光与光电子学进展 | 2017, 54(07):071404

 基于动态相位掩模板法的啁啾光纤光栅的制作

吕京生 宋志强 祁海峰 倪家升 王昌 王洪忠

[摘要]提出了一种利用均匀相位掩模板制作啁啾光纤光栅(FBG)的方法。在对光纤的扫描曝光过程中, 相位掩模板沿长度方向周期性抖动, 且抖动幅度随光栅扫描长度的变化而变化, 使FBG的相位随着掩模板位置的变化而变化, 实现了FB...

 PDF全文激光与光电子学进展 | 2017, 54(02):020603

 基于相位掩模法的高阶布拉格波导光栅特性

张爱玲 田红苗 李青青 王 钊

[摘要]对基于相位掩模法的高阶布拉格(Bragg)波导光栅的特性进行了研究, 不同阶数Bragg波导光栅的谐振波长均随饱和系数的增大而增大。综合考虑光栅阶数、相位掩模板衍射效率及饱和系数对Bragg波导光栅折射率调制幅度的影响,...

 PDF全文激光与光电子学进展 | 2017, 54(01):010603

 +1/-1相位掩模板和532 nm激光下低损耗As2S3硫系光纤布喇格光栅的制备

邹林儿 何盼盼 傅继武 陈抱雪

[摘要]采用改进型Sagnac干涉光栅写入系统, 利用532 nm准带隙光曝光源和带+1/-1衍射级的相位掩模板, 在两种不同直径的低损耗As2S3硫系玻璃光纤上刻写布喇格光栅, 并研究曝光期间光栅的动态特性.实验表明, As2S3光纤布喇格光...

 PDF全文光子学报 | 2017, 46(07):0706001

 多孔掩模对统计独立散斑图像形成的影响分析

徐美芳 丁俊文 胡鹏 王浩全 王冠军

[摘要]基于叠加统计独立散斑图像的散斑抑制原理, 设计了一个具有N个透光孔的掩模板, 将其放置于成像透镜出瞳面上, 理论研究了产生统计独立散斑图像所需的条件。在简化光学系统中, 将散射片与探测面分别置于透镜成像共轭面上...

 PDF全文中国激光 | 2017, 44(01):0101005

 基于离散余弦变换与二维Ushiki混沌的图像加密

谷帆 唐晨 苏永钢 程佳佳 李碧原 雷振坤

[摘要]提出了一种基于离散余弦变换与混沌随机相位掩模的图像加密方法。起密钥作用的两块混沌随机相位掩模由二维Ushiki混沌系统生成, Ushiki混沌系统的初值和控制参数可以替代随机相位掩模作为加解密过程中的密钥, 因此便于...

 PDF全文光学技术 | 2017, 43(第4):319

 基于离散余弦变换与二维Ushiki混沌的图像加密

谷帆 唐晨 苏永钢 程佳佳 李碧原 雷振坤

[摘要]提出了一种基于离散余弦变换与混沌随机相位掩模的图像加密方法。起密钥作用的两块混沌随机相位掩模由二维Ushiki混沌系统生成, Ushiki混沌系统的初值和控制参数可以替代随机相位掩模作为加解密过程中的密钥, 因此便于...

 PDF全文光学技术 | 2017, 43(04):319

 基于多混沌系统的双图像光学加密算法

孙杰

[摘要]为了扩展双图像光学加密算法的密钥空间, 克服双随机相位加密系统中随机相位掩模作为密钥难于存储、传输和重构的问题, 突破传统图像加密的研究思路, 提出了一种基于多混沌系统的双图像加密算法, 构造了光学加密系统。...

 PDF全文光学技术 | 2017, 43(03):279

 微结构窄带滤光片设计及制备工艺研究

潘永强 陈佳

[摘要]为了提升微结构窄带滤光片的光谱透过率, 增大微结构单元的制备精度, 提出一种新的膜系镀制方法和微结构单元的制备方法。基于法布里-珀罗(F-P)多光束干涉仪原理设计了3种不同中心波长的窄带滤光片, 采用光化学掩模分离...

 PDF全文应用光学 | 2017, 38(01):78

 基于变量分离分解法的极紫外光刻三维掩模快速仿真方法

张 恒 李思坤 王向朝

[摘要]提出了一种基于分离变量法的极紫外光刻三维掩模衍射谱快速仿真方法, 在保证一定仿真精度的前提下提高了仿真速度。该方法将三维掩模分解为2个相互垂直的二维掩模, 对2个二维掩模采用严格电磁场方法进行衍射谱仿真并将...

 PDF全文光学学报 | 2017, 37(05):0505001

 基于粒子群优化算法的光刻机光源掩模投影物镜联合优化方法

王 磊 李思坤 王向朝 杨朝兴

[摘要]全芯片多参数联合优化是光刻分辨率增强技术的重要发展方向。提出了一种基于粒子群优化(PSO)算法的光源掩模投影物镜联合优化(SMPO)方法。将由像素表征的光源、由离散余弦变换基表征的掩模及由泽尼克系数表征的投影...

 PDF全文光学学报 | 2017, 37(10):1022001

 准分布式光纤布拉格光栅高温传感器

杜勇 司金海 陈涛 李思佳 崔巍 李存霞 侯洵

[摘要]针对耐高温准分布式光纤布拉格光栅(FBG)传感器的需求,利用飞秒激光相位掩模辐照结合光纤拉伸,研究出制备不同周期的布拉格光栅的方法。通过改变光纤两端施加应力的大小来控制FBG的周期,得到具有不同布拉格波长的...

 PDF全文激光与光电子学进展 | 2016, 53(10):100606

 多算法融合的自适应图像增强方法

巨刚 袁亮 刘小月 何巍

[摘要]提出一种多算法融合的图像增强方法, 用于工程应用中的复杂降质图像的细节特征恢复.该方法汲取了Laplacian变换法、Sobel梯度法、盒状滤波法、非锐化掩蔽法及灰度幂律法等算法的优点, 可对模糊图像进行自适应增强.通过...

 PDF全文光子学报 | 2016, 45(12):1210002

 凸球面网栅激光直写技术

胡内彬 白 剑 墨洪磊 朱蓓蓓 兰 洁 梁宜勇

[摘要]为了满足凹球面光刻所需的曲面网栅掩模的需求,建立了凸球面激光直接写入系统用于制作曲面网栅掩模。该系统目前支持最高±20°的基片倾斜,结合加工时的曝光量修正算法,在口径为50 mm、曲率半径为51.64 mm的...

 PDF全文红外与激光工程 | 2016, 45(01):0120002

 干涉条纹相位变化对平面全息光栅曝光的影响

宋 莹

[摘要]为更好地评价平面全息光栅曝光系统的性能,了解干涉条纹相位变化对光栅制作的影响,基于曝光量表达式,结合光栅掩模槽形二元模型,采用理论分析和数值计算的方法,分析了条纹相位变化对曝光对比度、光栅掩模槽形和曝...

 PDF全文激光技术 | 2016, 40(03):339

 感应耦合等离子体干法刻蚀中光刻胶掩模的异常性

乔辉 刘诗嘉 刘向阳 朱龙源 兰添翼 赵水平 王妮丽 李向阳

[摘要]利用光刻胶作刻蚀掩模对半导体样品进行感应耦合等离子体干法刻蚀时发现光刻胶掩模在刻蚀后表面出现凸起和孔洞等异常现象, 等离子体会透过部分孔洞对样品表面产生刻蚀损伤。利用探针式表面轮廓仪和激光共聚焦显微镜对...

 PDF全文半导体光电 | 2016, 37(01):59

 黑硅的无掩模反应离子刻蚀法制备及光学性能研究

廖乃镘 向鹏飞 李仁豪

[摘要]采用无掩模反应离子刻蚀法制备了黑硅。利用扫描电子显微镜及紫外-可见-近红外分光光度计研究了黑硅的微结构和光学特性。结果表明, 黑硅微结构高度为2.0~3.5μm, 径向尺寸90~400nm, 间距200~610nm。在400~1000nm光谱范...

 PDF全文半导体光电 | 2016, 37(01):41

 基于多染色体遗传算法的像素化光源掩模优化方法

杨朝兴 李思坤 王向朝

[摘要]提出了一种基于多染色体遗传算法(GA)的像素化光源掩模优化(SMO)方法。该方法使用多染色体遗传算法,实现了像素化光源和像素化掩模的联合优化。与采用矩形掩模优化的单染色体GASMO方法相比,多染色体GASMO方法具有更高...

 PDF全文光学学报 | 2016, 36(08):0811001

 基于交替相移掩模矢量空间像的偏振像差检测方法

沈丽娜 王向朝 李思坤 闫观勇 诸波尔 孟泽江 张恒

[摘要]提出一种基于交替相移掩模空间像的光刻机投影物镜偏振像差检测方法。采用泡利-泽尼克系数表征偏振像差,结合X和Y两种线性偏振照明方式,用像传感器测量不同照明条件下掩模空间像的成像位置偏移与最佳焦面偏移,利用标...

 PDF全文光学学报 | 2016, 36(08):0811003

 基于动态适应度函数的光源掩模优化方法

杨朝兴 李思坤 王向朝

[摘要]提出了一种基于动态适应度函数的光刻机光源掩模优化方法(SMO)。动态适应度函数方法在遗传算法优化过程中采用动态适应度函数模拟真实光刻工艺条件误差对光刻结果的影响,得到对光刻工艺条件误差不敏感的优化光源和优化...

 PDF全文光学学报 | 2016, 36(01):0111006

 掩模位置误差对光刻投影物镜畸变的影响

杨旺 黄玮 尚红波

[摘要]为使光刻投影物镜满足光刻工艺的要求, 研究了掩模位置误差对光刻投影物镜引入的畸变。采用勒让德多项式描述光刻投影物镜的畸变, 并应用勒让德多项式对光刻投影物镜进行了畸变分析及畸变补偿。利用以上方法, 对一台工...

 PDF全文光学 精密工程 | 2016, 24(03):469

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