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 离子束溅射氧化铪薄膜的能带特性

刘华松 王利栓 杨 霄 刘丹丹 姜承慧 姜玉刚 季一勤 张 锋 陈德应

[摘要]氧化铪是高激光损伤阈值薄膜领域内一种重要的高折射率材料,其禁带宽度和Urbach带尾宽度直接影响到薄膜的吸收和激光损伤阈值。针对离子束溅射沉积法制备的氧化铪薄膜,以基板温度、离子束电压、离子束电流和氧气流量...

 PDF全文光学学报 | 2017, 37(02):0231001

 离子束溅射制备Nb2ONb5、TaNb2ONb5和SiONb2薄膜的光学、力学特性和微结构

袁文佳 沈伟东 郑晓雯 杨陈楹 章岳光 方波 沐雯 陈超楠 刘旭

[摘要]研究了离子束溅射(IBS)制备的Nb2O5、Ta2O5和SiO2薄膜的光学特性、力学特性以及薄膜微结构, 分析了辅助离子源电压对薄膜特性的影响, 并将电子束蒸发、离子辅助沉积和IBS制备的薄膜进行了对比。研究结果表明, IBS制备的...

 PDF全文光学学报 | 2017, 37(12):1231001

 离子束溅射制备低应力深紫外光学薄膜

才玺坤 张立超 时 光 贺健康 武潇野 梅 林

[摘要]采用离子束溅射制备了AlF3、GdF3单层膜及193 nm减反和高反膜系, 分别使用分光光度计、原子力显微镜和应力仪研究了薄膜的光学特性、微观结构以及残余应力。在优选的沉积参数下制备出消光系数分别为11×10-4和3...

 PDF全文中国光学 | 2016, 9(06):649

 离子束溅射制备GdF3光学薄膜沉积速率分布特性

贺健康 张立超 才玺坤 时光 武潇野 梅林

[摘要]本文采用离子束溅射方法制备GdF3薄膜, 并研究其沉积速率分布特征。首先, 采用膜厚仪测量得出GdF3薄膜在行星盘平面的二维沉积速率分布图, 通过拟合模型得到二维沉积速率分布公式。其次, 分析了束流束压及靶材角度对沉...

 PDF全文中国光学 | 2016, 9(03):356

 离子束溅射法制备碳化锗薄膜的红外光学特性和力学特性

孙鹏 胡明 张锋 季一勤 刘华松 刘丹丹 冷健 杨明 李钰

[摘要]采用离子束溅射法通过在CH4和Ar 的混合气体中溅射Ge靶材制备碳化锗(Ge1-xCx)薄膜.分别通过原子力显微镜、拉曼光谱和X射线光电子能谱、傅里叶变换红外光谱以及纳米压痕测试研究了薄膜的表面形貌、化学结构、光学特性和...

 PDF全文红外与毫米波学报 | 2016, 35(02):133

 离子束溅射氧化物薄膜的中红外特性

李定 熊胜明

[摘要]以离子束溅射沉积(IBSD)方法制备了Al2O3、Nb2O5单层膜,用红外可变角度光谱椭圆偏振仪(IR-VASE)测试了薄膜的光学常数。用原子力显微镜(AFM)测量了单层膜的表面形貌及表面粗糙度,计算了单个表面的总积分散射(TIS)。以...

 PDF全文中国激光 | 2015, 42(01):0107002

 原位氧化硅钝化层对氧化钒薄膜光电特性的影响

孔令德 方辉 魏虹 刘礼 周润生 铁筱滢 杨文运 姬荣斌

[摘要]氧化硅(SiOx)原位钝化层对氧化钒(VOx)薄膜电学特性的影响分析旨在改善像元微桥结构的光学吸收特性,提高热敏VOx 薄膜层的方阻和电阻温度系数(TCR)稳定性.采用离子束溅射沉积50 nm VOx 薄膜后,紧接着沉积30 nm SiOx 钝...

 PDF全文红外技术 | 2015, 37(04):319

 高色散系数线性渐变滤光片的研制

张建 高劲松 李玉东

[摘要]采用双离子束溅射物理沉积方法, 通过修正线性渐变沉积速率制备了高透过率、高色散系数的线性渐变滤光片。在不同材料的膜厚修正过程中, 通过匹配高低折射率材料的线性渐变趋势来减小两种材料的失配误差。利用微小光斑...

 PDF全文光学 精密工程 | 2015, 23(05):1221

 热蒸发与离子束溅射制备LaF3薄膜的光学特性

才玺坤 张立超 梅林 时光

[摘要]研究了钼舟热蒸发工艺和离子束溅射方法制备的单层LaF3薄膜的特性。首先,采用分光光度计测量了LaF3薄膜的透射率和反射率光谱,使用不同模型拟合得出薄膜的折射率和消光系数。然后,采用应力仪测量了加热和降温过程中...

 PDF全文中国光学 | 2014, 7(05):808

 渐变折射率Ta2O5/SiO2薄膜多脉冲激光损伤特性

蒲云体 陈松林 乔曌 刘浩 王刚 胡江川 马平

[摘要]采用离子束溅射(IBS)的方式, 制备了1064 nm高反射Ta2O5/SiO2渐变折射率光学薄膜。对其光学性能和在基频多脉冲下抗损伤性能进行了分析。 通过渐变折射率的设计方式, 很好地抑制了边带波纹, 增加了1064 nm反射率。通过...

 PDF全文强激光与粒子束 | 2014, 26(02):022019

 热处理对离子束溅射Ta2O5薄膜特性的影响

刘华松 姜承慧 王利栓 刘丹丹 季一勤 陈德应

[摘要]利用离子束溅射沉积技术制备了Ta2O5薄膜,在100~600 ℃的大气氛围中对其进行热处理(步进温度为100 ℃),并对热处理后样品的光学常数(折射率、折射率非均匀性、消光系数和物理厚度)、应力、晶向和表面形貌进行了研究。研...

 PDF全文光学 精密工程 | 2014, 22(10):2645

 离子束溅射、热舟和电子束法制备深紫外LaF3薄膜

时光 梅林 高劲松 张立超 张玲花

[摘要]为了满足深紫外光刻物镜对薄膜的要求,得到低损耗、高稳定性、长寿命的深紫外薄膜,需要选用适当的镀膜工艺方法。分别选取了离子束溅射法、热舟蒸发法和电子束蒸发法优化后的最佳工艺参量,在融石英基底上使用3种方法...

 PDF全文激光技术 | 2013, 37(05):592-595

 SiO2薄膜的可见光与红外波段光学常数的色散特性

刘华松 王利栓 姜承慧 刘丹丹 姜玉刚 吴炳俊 季一勤

[摘要]离子束溅射(IBS)与电子束蒸发(EBE)是常用的SiO2薄膜制备方法。基于椭圆偏振法和全光谱拟合法,研究了离子束溅射和电子束蒸发两种工艺方法制备的SiO2薄膜的可见光与红外波段光学常数色散特性。在可见光波段的色散...

 PDF全文光学学报 | 2013, 33(10):1031002

 离子束溅射制备SiO2薄膜的折射率与应力调整

刘华松 王利栓 姜玉刚 季一勤

[摘要]基于正交试验方法, 系统研究了用离子束溅射法制备SiO2薄膜其折射率、应力与工艺参数(基板温度、离子束压、离子束流和氧气流量)之间的关联性。使用分光光度计和椭圆偏振仪测量SiO2薄膜透过率光谱和反射椭偏特性, 利用...

 PDF全文光学 精密工程 | 2013, 21(09):2238-2243

 Ge/Si量子点的控制生长

潘红星 王茺 杨杰 张学贵 靳映霞 杨宇

[摘要]采用离子束溅射技术,在生长了Si缓冲层的硅晶片上制备了一系列Ge量子点样品.借助原子力显微镜(AFM)和Raman光谱等测试手段研究了Ge/Si量子点生长密度、尺寸及排列均匀性的演变规律.结果表明,改变Si缓冲层厚度及其生长...

 PDF全文红外与毫米波学报 | 2012, 31(05):416-421

 深紫外氧化物薄膜的光学特性

常艳贺 金春水 李春 邓文渊 匡尚奇 靳京城

[摘要]降低薄膜的吸收对于氧化物薄膜在深紫外波段的应用具有重要意义,为此采用离子束溅射方法分别制备了用于深紫外波段的Al2O3和SiO2薄膜,利用光度法和椭圆偏振法相结合,计算得到其在190~800 nm范围内折射率n和消光系数...

 PDF全文中国激光 | 2011, 38(12):1207004

 离子束反应溅射沉积SiO2薄膜的光学特性

米高园 朱昌 戚云娟 达斯坦科 格拉索夫 扎瓦斯基

[摘要]主要研究采用离子束反应溅射(RIBS)制备SiO2薄膜的折射率、消光系数、化学计量比与氧气在氩氧混合工作气体中含量及其沉积速率的关系。研究结果表明:RIBS制备的SiO2薄膜在0.63 μm处折射率n= 1.48,消光系数小于10-5;...

 PDF全文应用光学 | 2011, 32(02):236-240

 基于时间控厚离子束溅射技术的宽带减反膜制备

刘华松 王占山 季一勤 沈正祥 马彬 程鑫彬 焦宏飞 陈德应 刘丹丹 宋洪君

[摘要]为了制备满足设计要求的宽角度、宽波段减反膜, 利用离子束溅射沉积技术, 在时间-功率控厚的模式下, 对膜层沉积速率进行了精确修正。在实验中, 利用时间-功率控厚的离子束溅射沉积技术, 选择HfO2和SiO2作为高低折射率...

 PDF全文强激光与粒子束 | 2011, 23(02):407-411

 离子束溅射制备“日盲”紫外诱导透射滤光片

邓文渊 金春水

[摘要]对“日盲”紫外诱导透射滤光片进行了理论设计与分析, 并分别优化了离子束溅射法沉积ZrO2、SiO2和Al薄膜的工艺。利用反射与透射光谱反演获得了ZrO2和SiO2薄膜的光学常数, 并由JGS1/SiO2/Al/SiO2/air(SAS)样品的变角度...

 PDF全文光学 精密工程 | 2011, 19(12):2884-2890

 不同工艺沉积的氧化铝薄膜研究

赵志宏 季一勤 刘丹丹 宗杰

[摘要]通过离子束溅射(IBS),离子束反应溅射(IBRS)和电子束蒸发(EBE)等沉积方式得到氧化铝膜层,并对其光学特性,表面粗糙度,膜层微结构以及膜层晶相构成进行了研究。研究表明,以IBS方法得到的膜层具有较高的折射率和致密...

 PDF全文Chinese Optics Letters | 2010, 8(s1):83

 电子束蒸发和离子束溅射HfO2紫外光学薄膜

邓文渊 李春 金春水

[摘要]HfO2薄膜在紫外光学中具有十分重要的地位,不同方法制备的HfO2薄膜特性不同,可以满足不同的实际应用需求。本文分别利用电子束蒸发和离子束溅射方法制备了用于紫外光区域的HfO2薄膜,并对薄膜的材料和光学特性进行了...

 PDF全文中国光学 | 2010, 3(06):630-636

 离子束溅射沉积Ir膜真空紫外反射特性研究

干蜀毅 刘正坤 盛斌 徐向东 洪义麟 刘颍 周洪军 霍同林 付绍军

[摘要]根据吸收材料基底上单层金属膜数学计算模型,对不同基片上各种厚度的Ir膜真空紫外反射率进行了优化计算.采用离子束溅射沉积技术,在石英、K9玻璃和Si基片上沉积了不同厚度的Ir膜,研究了基片、表面厚度、离子束能量及...

 PDF全文光子学报 | 2009, 38(05):1207-1211

 K9和石英玻璃基片上Au膜真空紫外反射特性研究

干蜀毅 徐向东 洪义麟 刘颍 付绍军

[摘要]采用离子束溅射法,分别在经过不同前期清洗方法处理过的K9及石英玻璃光学基片上,选择不同的镀膜参量,镀制了多种厚度的Au膜。对镀制的Au膜在真空紫外波段较宽波长范围内的反射率进行了连续测量。测试结果表明:辅助离子...

 PDF全文光学学报 | 2007, 27(08):1529-1535

 双离子束溅射沉积HfO2光学薄膜的研究

张文杰 彭玉峰 王建成 程祖海

[摘要]用双离子束溅射沉积氧化铪光学薄膜,并对此工艺下制备的氧化铪薄膜进行了光学性质、残余应力、结构特性以及激光损伤特性的研究.实验结果表明,用双离子束溅射沉积的氧化铪薄膜不仅结构均匀,膜层致密,无定形结构,而且具...

 PDF全文强激光与粒子束 | 2007, 19(09):1543-1546

 离子束溅射沉积不同厚度铜膜的光学常数研究

范平 邵建达 易葵 齐红基 范正修

[摘要]利用Lambda-900分光光度计对离子束溅射沉积不同厚度Cu膜测定的反射率和透射率,运用哈德雷方程,并考虑基片后表面的影响,对离子束溅射沉积的Cu膜光学常数进行了计算。结果表明,在同一波长情况下,膜厚小于100 nm的纳米C...

 PDF全文光学学报 | 2006, 26(06):943-947

 Au/SiO2纳米复合型材料的光吸收性质

王勤诚 俞国庆

[摘要]在室温下用离子束溅射沉积工艺在石英基材上生成Au-SiO2复合薄膜。把生成薄膜从500~900 ℃(分别保温5 min)分五个不同温度进行退火处理。用X光衍射方法(XRD)对薄膜结构进行了测试,得到Au-SiO2纳米复合薄膜未退火(as-d...

 PDF全文光学学报 | 2006, 26(05):783-786

 一种日夜两用光学低通滤波器的研制

袁宏韬 张贵彦

[摘要]利用石英晶体的双折射效应和特殊红外截止滤光片设计并实现了一种日夜两用光学低通滤波器.该滤波器置于CCD摄像机传感器前可以有效地降低或消除离散光电探测器对不同空间频率目标成像所产生的拍频效应或条纹混叠现象,并...

 PDF全文光学 精密工程 | 2006, 14(04):570-574

 相变型VO2薄膜的制备及其特性的研究

周少波 王双保 陈四海 易新建

[摘要]利用反应离子束溅射和后退火工艺制备一种新的相变型VO2薄膜,对该薄膜进行电学测试、XRD和光学透过率的测试.这种工艺制备出的相变型VO2薄膜相变温度更接近室温,XRD显示这种薄膜中有VO2、V2O5成分的存在.对这种薄膜的光...

 PDF全文红外与激光工程 | 2005, 34(01):27-30

 TiO2膜消光系数的确定及制备参量的影响

顾培夫 陈海星 艾曼灵 章岳光 刘旭

[摘要]基于窄带干涉滤光片的峰值透射率测量可以直接反演出薄膜的消光系数,从而得到了一种简易而又精确的评价薄膜微弱损耗的新方法。 阐述了确定弱吸收薄膜消光系数的基本原理,并分析了这种评价方法的基本精度。讨论了离子束...

 PDF全文光学学报 | 2005, 25(07):1005-1008

 离子束溅射淀积光学薄膜的膜厚均匀性实验

李凌辉 熊胜明 申林 刘洪祥 张云洞

[摘要]介绍了离子束溅射技术改善薄膜均匀性的两种方法.研究了修正板技术,根据工程需要将修正板技术应用于行星转动条件下的光学薄膜的均匀性修正.分别研究了靶摆动和不摆动的情况下,淀积薄膜的均匀性修正.实验结果表明,修正...

 PDF全文光电工程 | 2004, 31(z1):67-69

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