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   将选定结果: 

 一种兼顾照明与通信的环形光源布局模型

赵 黎 朱 彤 刘智港 刘雪莹

[摘要]传统基于阵列的光源布局方式在室内难免存在光照度及系统误码率不均匀现象,为提高系统照度均匀性及通信可靠性,需合理对光源进行优化布局。本文以4 m×4 m×3 m的房间为模型,设计了单LED 阵列+灯带的环形光...

 PDF全文光电工程 | 2018, 45(07):170503

 室内VLC系统光源布局设计

赵黎 彭恺 焦晓露

[摘要]在可见光通信系统中, 光源具有照明和通信的双重作用, 由于房间的大小以及室内环境各不相同, 难免会存在光照射不到或者光线比较微弱的地方, 这些地方很有可能成为通信的盲区, 这将会大大影响通信的质量, 为了解决阴影...

 PDF全文红外与激光工程 | 2017, 46(11):1122001

 全同弱光纤光栅阵列反射信号仿真计算与分析

柯宇锷 郑羽 刘宇 郭会勇 余海湖

[摘要]全同弱光栅通过时分/波分混合复用时,光栅阵列中的阴影效应、多重反射等对反射信号会产生影响。对全同弱光纤光栅阵列所作的时域反射信号仿真计算和分析表明,阴影效应和多重反射不会引起光栅中心波长漂移,但会导致光...

 PDF全文光通信研究 | 2015, 41(04):39

 极紫外投影光刻掩模阴影效应分析

曹宇婷 王向朝 步扬 刘晓雷

[摘要]极紫外(EUV)投影光刻掩模在斜入射光照明条件下,掩模成像图形位置和成像图形特征尺寸(CD)都将随入射光方向变化,即存在掩模阴影效应。基于一个EUV掩模衍射简化模型实现了掩模阴影效应的理论分析和补偿,得到了掩...

 PDF全文光学学报 | 2012, 32(08):0805001

 极紫外光刻离轴照明技术研究

王君 金春水 王丽萍 卢增雄

[摘要]离轴照明技术(OAI)是极紫外光刻技术中提高光刻分辨率的关键技术之一。为了实现考虑掩模阴影效应情况下离轴照明的优化选择,构造了一种新型实现OAI曝光的成像模型。将照射到掩模上的非相干光等效为一系列具有连续入射...

 PDF全文光学学报 | 2012, 32(12):1211003

 扩展傅里叶衍射理论在相移掩模中的应用

刘佳 张晓萍

[摘要]针对现代光刻中,超大数值孔径的情况下,通过简单的傅里叶衍射理论模拟掩模的传递函数的方法不够精确,必须得考虑倾斜照明带来的阴影效应。因此本文针对交替式相移掩模,提出了一种考虑阴影效应的近似模型。重新定义了阴...

 PDF全文光电工程 | 2008, 35(01):40-44

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