氦冷却源适用于工业应用中，有望成为“激光加工的新领域”。

滨松新型高能工业脉冲激光系统的外观

Hamamatsu Photonics发明了一种有效氦冷却激光介质的技术，因此开发出一种工业脉冲激光系统，可产生117焦耳的脉冲能量。该公司表示，这一输出是世界上“激光二极管泵浦激光器中最高的”。新开发的激光系统于上周在Pacifico Yokohama（日本横滨西区）举行的2019年光学与光子学国际会议（“OPIC”）上首次公开亮相。 Hamamatsu评论说，新的光源将“进一步提高激光冲击效应，以硬化飞机和汽车中使用的金属材料表面。”“这种激光系统也将成为新激光加工应用的有力助手，例如用于成型金属材料和去除油漆的激光成形。”Hamamatsu解释了一些具有增强激光输出能量的激光设计特征，“我们新开发的激光通过激光放大室循环氦气，大大提高了冷却效率，激光放大室可以冷却激光介质的两侧。”

稳定的冷却

“氦气保持在5个大气压的压力和-100摄氏度的温度下以稳定冷却。此外，在激光通过的光学窗口中，我们采用了耐低温高压的材料以及具有高耐久性的结构设计。为了使激光介质以比传统设备更高的效率存储更多能量，Hamamatsu设计了大直径陶瓷圆盘，优化后可以轻松吸收光线，并将六个圆盘作为激光介质。“我们还设计开发了一种独特的放大器，同时安装了紧凑高功率的LD模块作为泵浦源，并以此方式成功地缩小了系统尺寸。这意味着我们现在可以提供能够产生世界上最高的输出能量的LD泵浦脉冲激光系统，即使其器件占位面积相当于海外开发的LD泵浦脉冲激光器。

氦气冷却对于新型脉冲激光器的设计和操作至关重要

市场拉动

“产生能量约为10焦耳的脉冲激光器开始出现在生产线上，”Hamatsu的发布声明补充道。“对于这些任务，现在对更高能量脉冲激光系统的需求日益增长，这些系统能够照射大面积并在材料深处施加冲击波，以进一步提高激光冲击效应。“我们新开发的激光器是一种工业脉冲激光系统，能够通过使用两个放大器将5焦耳至117焦耳的种子光的脉冲能量增强，每个放大器配备有我们在内部制造的四个泵浦LD模块。”研究人员得出结论，将继续开发新的激光介质和冷却技术，以进一步提高激光输出能量。

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