光电工程, 2019, 46 (5): 180444, 网络出版: 2019-07-25   

TFT光刻平面补偿优化

The improvement of TFT lithography plane compensation
作者单位
合肥京东方光电科技有限公司,安徽合肥 230012
引用该论文

张玉虎, 徐海涛, 李亚文, 罗传文, 曹少波, 李力. TFT光刻平面补偿优化[J]. 光电工程, 2019, 46(5): 180444.

Zhang Yuhu, Xu Haitao, Li Yawen, Luo Chuanwen, Cao Shaobo, Li Li. The improvement of TFT lithography plane compensation[J]. Opto-Electronic Engineering, 2019, 46(5): 180444.

引用列表
1、 TFT制程曝光色差研究液晶与显示, 2021, 36 (3): 412

张玉虎, 徐海涛, 李亚文, 罗传文, 曹少波, 李力. TFT光刻平面补偿优化[J]. 光电工程, 2019, 46(5): 180444. Zhang Yuhu, Xu Haitao, Li Yawen, Luo Chuanwen, Cao Shaobo, Li Li. The improvement of TFT lithography plane compensation[J]. Opto-Electronic Engineering, 2019, 46(5): 180444.

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