光电工程, 2019, 46 (5): 180444, 网络出版: 2019-07-25
TFT光刻平面补偿优化
The improvement of TFT lithography plane compensation
基本信息
| DOI: | 10.12086/oee.2019.180444 |
| 中图分类号: | TN305.7 |
| 栏目: | 科研论文 |
| 项目基金: | -- |
| 收稿日期: | 2018-08-24 |
| 修改稿日期: | 2018-10-23 |
| 网络出版日期: | 2019-07-25 |
| 通讯作者: | 张玉虎 (zhangyuhu@boe.com.cn) |
| 备注: | -- |
张玉虎, 徐海涛, 李亚文, 罗传文, 曹少波, 李力. TFT光刻平面补偿优化[J]. 光电工程, 2019, 46(5): 180444. Zhang Yuhu, Xu Haitao, Li Yawen, Luo Chuanwen, Cao Shaobo, Li Li. The improvement of TFT lithography plane compensation[J]. Opto-Electronic Engineering, 2019, 46(5): 180444.
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