光学学报, 2019, 39 (1): 0122001, 网络出版: 2019-05-10
16 nm极紫外光刻物镜热变形对成像性能影响的研究 下载: 1348次
Effect of Thermal Deformation on Imaging Performance for 16 nm Extreme Ultraviolet Lithography Objective
基本信息
DOI: | 10.3788/AOS201939.0122001 |
中图分类号: | TN305.7 |
栏目: | 光学设计与制造 |
项目基金: | 国家科技重大专项(2012ZX02702001-002)、 |
收稿日期: | 2018-07-11 |
修改稿日期: | 2018-08-23 |
网络出版日期: | 2019-05-10 |
通讯作者: | |
备注: | -- |
李艳秋, 刘岩, 刘丽辉. 16 nm极紫外光刻物镜热变形对成像性能影响的研究[J]. 光学学报, 2019, 39(1): 0122001. Yanqiu Li, Yan Liu, Lihui Liu. Effect of Thermal Deformation on Imaging Performance for 16 nm Extreme Ultraviolet Lithography Objective[J]. Acta Optica Sinica, 2019, 39(1): 0122001.