阴离子改性抛光剂对磷酸盐激光钕玻璃抛光的影响

刘伯勋; 焦翔; 谭小红; 朱健强

doi:doi:10.3788/CJL202047.1003001

中国激光, 2020, 47 (10): 1003001, 网络出版: 2020-10-09

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Effect of Anionic Modified Polishing Agent on Nd-Doped Phosphate Laser Glass Polishing

刘伯勋 ^1,2,3焦翔 ^2,3谭小红 ^2,3朱健强 ^1,2,3,*

作者单位

¹ 上海科技大学物质科学与技术学院, 上海201210

² 中国科学院上海光学精密机械研究所高功率激光物理联合实验室, 上海 201800

³ 中国科学院中国工程物理研究院高功率激光物理联合实验室, 上海 201800

图 & 表

图 1. 抛光液中磨料粒子的中位粒径分布

Fig. 1. Median particle diameter d₅₀ of ceria abrasives in polishing slurry

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图 2. 雷米邦A质量分数对材料去除率的影响

Fig. 2. Effect of mass fraction of Lamepon A on material removal rate

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图 3. 雷米邦A质量分数对钕玻璃表面粗糙度的影响

Fig. 3. Effect of mass fraction of Lamepon A on surface roughness of Nd-glass

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图 4. 添加不同质量分数的雷米邦A时钕玻璃的抛光质量。(a) 0;(b) 0.20%;(c) 0.35%

Fig. 4. Polishing quality of Nd-glass with different mass fraction of Lamepon A. (a) 0; (b) 0.20%; (c) 0.35%

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图 5. 抛光液pH对材料去除率的影响

Fig. 5. Effect of pH of polishing slurry on material removal rate

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图 6. 抛光液pH对表面粗糙度的影响

Fig. 6. Effect of pH of polishing slurry on surface roughness

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刘伯勋, 焦翔, 谭小红, 朱健强. 阴离子改性抛光剂对磷酸盐激光钕玻璃抛光的影响[J]. 中国激光, 2020, 47(10): 1003001. Liu Boxun, Jiao Xiang, Tan Xiaohong, Zhu Jianqiang. Effect of Anionic Modified Polishing Agent on Nd-Doped Phosphate Laser Glass Polishing[J]. Chinese Journal of Lasers, 2020, 47(10): 1003001.

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图 1. 抛光液中磨料粒子的中位粒径分布

Fig. 1. Median particle diameter d₅₀ of ceria abrasives in polishing slurry

图 2. 雷米邦A质量分数对材料去除率的影响

Fig. 2. Effect of mass fraction of Lamepon A on material removal rate

图 3. 雷米邦A质量分数对钕玻璃表面粗糙度的影响

Fig. 3. Effect of mass fraction of Lamepon A on surface roughness of Nd-glass

图 4. 添加不同质量分数的雷米邦A时钕玻璃的抛光质量。(a) 0;(b) 0.20%;(c) 0.35%

Fig. 4. Polishing quality of Nd-glass with different mass fraction of Lamepon A. (a) 0; (b) 0.20%; (c) 0.35%

图 5. 抛光液pH对材料去除率的影响

Fig. 5. Effect of pH of polishing slurry on material removal rate

图 6. 抛光液pH对表面粗糙度的影响

Fig. 6. Effect of pH of polishing slurry on surface roughness

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图 1. 抛光液中磨料粒子的中位粒径分布

Fig. 1. Median particle diameter d50 of ceria abrasives in polishing slurry

图 2. 雷米邦A质量分数对材料去除率的影响

Fig. 2. Effect of mass fraction of Lamepon A on material removal rate

图 3. 雷米邦A质量分数对钕玻璃表面粗糙度的影响

Fig. 3. Effect of mass fraction of Lamepon A on surface roughness of Nd-glass

图 4. 添加不同质量分数的雷米邦A时钕玻璃的抛光质量。(a) 0;(b) 0.20%;(c) 0.35%

Fig. 4. Polishing quality of Nd-glass with different mass fraction of Lamepon A. (a) 0; (b) 0.20%; (c) 0.35%

图 5. 抛光液pH对材料去除率的影响

Fig. 5. Effect of pH of polishing slurry on material removal rate

图 6. 抛光液pH对表面粗糙度的影响

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