1 中国科学院 长春光学精密机械与物理研究所 超精密光学工程研究中心, 吉林 长春 130039
2 中国科学院大学, 北京 100049
3 长春国科精密光学技术有限公司, 吉林 长春 130039
深紫外光刻是目前集成电路制造的主流方法, 为实现更小的元件特征尺寸, 必须采用浸没式投影物镜以提高光学系统的分辨率, 由此向其中的薄膜光学元件提出了众多苛刻的要求。本文介绍了适用于浸没式光刻系统的薄膜材料及膜系设计, 以及高NA光学系统所需的大角度保偏膜系; 对物镜中最关键的浸液薄膜的液体环境适应性、疏水及防污染等关键问题进行了讨论; 对衡量浸没式光刻系统性能的重要因素镀膜元件激光辐照寿命, 尤其是浸液环境下的元件辐照寿命进行了分析。
浸没式光刻 光学薄膜 膜系设计 环境适应性 激光辐照寿命 immersion lithography optical coatings coating system design environmental adaptability lifetime under laser irradiation
