采用原子层沉积(ALD)技术在石英管表面制备了薄膜,研究了该薄膜的均匀性,以及石英管的内径、外径、长度对沉积薄膜均匀性的影响。以单波长减反射膜为研究对象,实验测试的反射光谱与仿真结果一致,石英管表面最低反射率可降至0.17%。忽略夹具影响,石英管外壁与内壁的减反射薄膜的非均匀性基本一致,在±1.69%范围内,内外壁表面减反射薄膜的厚度和中心波长相同,且石英管尺寸对内外壁薄膜均匀性无明显影响。利用ALD技术可在大曲率元件的内外表面沉积厚度偏差小且均匀性分布相似的减反射薄膜。

研究了离子束溅射(IBS)制备的Nb₂O₅、Ta₂O₅和SiO₂薄膜的光学特性、力学特性以及薄膜微结构,分析了辅助离子源电压对薄膜特性的影响,并将电子束蒸发、离子辅助沉积和IBS制备的薄膜进行了对比。研究结果表明,IBS制备的薄膜具有更好的光学特性和微结构,同时具有较大的压应力、硬度和杨氏模量;辅助离子源可以改善薄膜的光学特性,调节薄膜应力和减小薄膜表面粗糙度,但对硬度和杨氏模量的影响相对较小。在不同的辅助离子源电压下,IBS制备的Nb₂O₅应力为-152~-281 MPa, Ta₂O₅的应力为-299~-373 MPa,SiO₂的应力为-427~-577 MPa;在合适的工艺参数下,消光系数可小于10 ^-4;薄膜表面平整,均方根粗糙度小于0.2 nm。

设计和制备了一种用于1064 nm分振幅光偏振测量仪(DOAP)的具有多层介质薄膜结构的差分相移分束镜。通过理论分析该DOAP系统的仪器矩阵参数, 得到分束镜的最优参数, 并用离子束溅射沉积方法制备了分束镜样品及其背面的减反射膜, 其实测结果与设计值吻合较好。与单层薄膜分束镜相比, 多层介质薄膜分束镜不受基板、膜层材料, 以及入射角和工作波长的限制, 具有更广泛的应用。

以乙酰丙酮铱[Ir(acac)3]和高纯氧为前驱体，采用原子层沉积(ALD)方法在基板温度为340 ℃的石英玻璃和硅基板上制备了金属铱薄膜。采用反射光谱测试仪、X射线电子能谱（XPS）、X射线衍射（XRD）、扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)等手段对不同厚度薄膜的微结构、表面形貌和光学性能进行了研究。结果表明，原子层沉积制备的Ir薄膜中元素纯度较高（大于95%），表面粗糙度低，并呈现多晶纳米颗粒。同时，Ir薄膜在紫外波段表现出较好的光学特性，可以用于制作Ir金属紫外光栅等光学器件。

设计制备了一种抗紫外(UV)辐射的塑料显示面板的减反射膜。对常用的聚碳酸酯(PC)塑料面板，在垂直入射时，减反膜紫外波段300~380 nm的平均反射率大于99.5%，可见光波段420~750 nm的残余反射率为0.22%；在45°入射时，紫外波段300~360 nm的平均反射率大于98.8%，可见光波段400~700 nm的残余反射率约为0.71%。讨论了PC基板与薄膜的附着力及应力。实验表明，PC塑料显示面板的抗UV辐射性能、减反射性能、使用的角度以及膜层的牢固度均能满足实用要求。